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标题:[未解决]扫描电镜在集成电路及半导体方面的应用？

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发表于 2009-10-27 09:48 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

扫描电镜在集成电路及半导体方面的应用？

大家交流一下扫描电镜在集成电路和半导体分析方面应用经验好吗，电镜选型时要注意些什么？需要用一般的钨灯丝电镜还是要用到场发射电镜（冷场好还是热场好），需要用什么检测器？谢谢回复！
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发表于 2009-10-27 09:56 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
后道用W就好,前道要看工艺,一般都用FEG的,相对于半导体工艺来说,偶觉得还是热场好一点,一般加上EDX就OK了,少数会用CL和EBIC,现在还有人在CHAMBER里加PROBE测I-V CURVE
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发表于 2009-10-27 09:56 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
工厂里是不是不常用SEM啊，我知道FIB（focus ion beam）是常用的。
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发表于 2009-10-27 09:57 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
FIB是离子筒，是附加在使用电子筒的电镜上的，直接利用离子束的离子镜现在全球只有一家能做。
还有FIB是 FOCUSED ION BEAM，不是FOCUS ION BEAM。
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发表于 2009-10-27 09:57 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
学习了！！！
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