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标题:[未解决]非晶Si薄膜中的黑色条纹

  [未解决]本主题悬赏 可用分 10  
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发表于 2010-6-13 09:25 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

非晶Si薄膜中的黑色条纹

本人制备了一个非晶Si薄膜的平面样品，但是在图像中看到许多黑色条纹带，这是否是因为薄膜中应力应变造成？（因为是离子减薄的样品）
请大侠指教！
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hongjingzi[使用道具]
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发表于 2010-6-13 09:27 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
上个照片看看，记得一定带标尺。
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发表于 2010-6-13 09:28 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
请指教，谢谢！

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hongjingzi[使用道具]
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发表于 2010-6-13 09:28 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
那个黑黑的大棒子太大了，有没有低倍的图片？要看看数量，分布。另外，这个照片严重过焦，会出现假象，最好是倍数低一些，正聚焦或者轻微欠焦的照片。称度太差可以加物镜光栏。
但是可以肯定，这个条纹不是单纯离子减薄形成的。
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发表于 2010-6-13 09:29 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
我觉得就是这个地方比较厚，原因可能是膜有了重叠，或者这个地方有其他物质沉积。
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发表于 2010-6-13 09:30 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
偶是新手，照片质量较差，请多包涵啊。
这是唯一的一张低倍像，因为看到许多条纹，又完全是非晶膜，所以就没有继续照相了。
今天又听到一个解释，说可能是等倾或等厚条纹，不知是否正确？因为偶觉得这个膜是不应该有重叠的，即使是重叠，也不会有那么多重叠。

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发表于 2010-6-13 09:31 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
哪个是条纹？最下面的两条，还是上面那些黑黑的？两张图的尺寸好对不上。如果信息不准确，费脑筋解释是没有意义的。如果确实感兴趣，建议重新做一次实验。
非晶膜不会有等倾和等厚条纹条纹。
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发表于 2010-6-13 09:31 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
我前几天帮别人做过一个样品，是在SiO2（好像是非晶）表面长多层膜，也看到跟你发的类似的图像。本来以为是多层膜，对这个黑条纹做能谱分析，结果还是SiO2。我怀疑这些黑条纹可能是离子减薄过程中样品边缘卷曲造成的。
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发表于 2010-6-13 09:32 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
楼上的回答也许是正确的，因为我也是在Si衬底上生长SiO2和Si的多层膜，结果发现是非晶的，而且有这许多条纹（这个是平面样品，所以应该不会是多层膜的特征吧）。因为不能做能谱，所以不知道是什么东西。又因为负责离子减薄的工程师说因为我的样品做的不是太好，所以可能会有很多应力在里面，所以想问问。
另，回6楼：黑色条纹是指上面那些黑的。这个样品并不是特别重要，只是因为是新手，看到这个情况，想了解一下而已。
谢谢大家的耐心解答！
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xiaoyu[使用道具]
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发表于 2010-6-13 09:32 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
非晶膜为什么不会有等倾等厚条纹啊，这不是光的干涉吗？和晶态非晶态也有关系？
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