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标题:[未解决]【求助】国内GMP对制药设备的管理

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【求助】国内GMP对制药设备的管理

国家GMP对制药设备有什么具体的管理呢?比如,设备使用的材料,设备结构等?

另外,是否向药品一样,一个制药设备的研发是否要递交相关的证明材料,以证明设备是符合GMP的相关条例,并像药品一样取得一个注册证号?
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由于原料药装备品类较多,各有特点,为此分类叙述如下。



1、发酵罐。 医学 教育网搜集整理



发酵罐多数用于抗菌素生产,大型者容积可达100m3以上。若干生物化学反应过程,也采用类似装置但规模都小。



对发酵罐来说其主要任务是完成培养发酵,菌种要经实验室斜面、摇瓶培养后逐步经种子罐、中罐再移种至发酵罐。因此要求在接种以前先对罐中的培养液进行灭菌及冷却至培养温度;同时用经除菌的压缩空气保压;再将种子在无菌条件下输入种子罐,经在种子罐培养结束再逐级移种扩大。在接种及移种过程,要事先对所经过的管道配置蒸汽灭菌的设施,包括蒸汽引入及原管道中存留空气的排出。 [***整理发布]



对大容积发酵罐的培养液灭菌,常采用连续灭菌法处理。培养液配料搅匀以后,用泵送入连续灭菌器,经过规定温度、压力、及停留时间以后,进入已经灭菌的发酵罐中。其温度、压力及停留时间应严格控制,并经灭菌验。



对机械搅拌轴的轴封,不得采用填料密封。因为密封填料没有彻底灭菌的条件,而被磨损的填料,有可能落入发酵罐中引起污染。采用机械密封也应注意对搅拌系统进行平衡校正,尽量减少轴的晃动。密封面也应有补偿装置来消除因晃动而引起的密封面受压不均而造成泄漏 。



2、反应罐



在制药行业特别是合成药物的生产使用大量的化学反应装置。其中多数是罐式反应器,也有连续式或连续—分批相结合的型式。在反应设备中除了反应过程有易污染物料进入以外,一般不需设置蒸汽灭菌设施。如果有易污染物料进入,则应参考发酵罐,增设灭菌管道等设施,而且进入系统的物料需在进入系统以前进行灭菌或除菌。



反应罐的规模应以容纳一个批号物料为基准考虑。

反应罐要求可以原位清洗。

反应罐所配备的搅拌系统应根据不同的反应物系,如液—液、液—固、气—液或气—液—固,配置有效的叶型及搅拌强度,以保证反应达到预期效果。

反应罐也应根据反应所需温度变化配备加热或冷却系统。



3、萃取及浸取系统



萃取及浸取是把有效成份从液相或固相中用另一液相进行混和接触并重行分离,使有效成份转移的过程。此类设备要求其设备本体及所附属之管道不积存料液,并可原位清洗。对浸取设备还应能在每批操作结束,将被浸取固体物料全部排净,并能进行原位清洗。



4、结晶



结晶在制药过程中基本上都是原药纯化的工序。要求结晶设备可原位清洗(CIP)及原位灭菌(SIP)。结晶设备要求配备蒸汽进出管道;蒸汽进入结晶设备以前要经洁净过滤,以防铁锈等杂物进入。其过滤介质应能耐受灭菌蒸汽的温度,其孔径应小于φ0.22μm。结晶设备底部排料口与底部阀门之间不能有空间,以防在此区域用搅拌不充分而形成不规格结晶,甚至形成堵塞,因此应采用向上开启的底阀。



结晶罐的搅拌也应配置合适的轴封,轴封的磨损端面可能磨脱的颗粒应利用结晶罐的正压操作以及磨损物承接槽(此槽应加设排泄通道,可在清洗及灭菌时得以处理)加以控制,不使此类磨脱颗粒混入成品。



搅拌叶轮及组合应根据结晶工艺要求如颗粒度、晶形等进行对比选配;在冷却结晶过程中也注意叶轮的选用,以防止晶体在器壁形成结晶层。



在减压结晶流程中,要对增设的冷凝器、凝液收集罐等同样配备原位清洗及原位灭菌设施;对复压用压缩空气也须要在进罐前经洁净过滤。其引入管之灭菌与结晶罐同时进行。



5、过滤



过滤是将液相和固相进行分离的单元操作。在原料药生产中有广泛的应用。根据所处不同的工序,即要求洁净的如成品的结晶等;以及除此以外的过滤,分别处理。



在原料药生产过程中有若干为滤除杂物或发酵液除菌丝的操作。这些操作还没有进入洁净处理阶段,因此除了杂菌类极易繁殖的场合以外,不设原位灭菌功能。而充分有效的原位清洗功能则都是必须的。如发酵液过滤中用的鼓式过滤机或板框压滤机等其工作空间以及过滤介质,在每批操作结束,都必须进行彻底清洗,以防止菌类的繁殖。



在进入成品阶段,如在成品结晶以前,其母液以及进入结晶器的其他料液都必须进行洁净过滤。其过滤介质常为能耐受该操作温度下孔径<0.22μm的膜滤器。该膜滤器在投入使用前应通过蒸馏水冲刷器内积存物,并经蒸汽灭菌,再降至室温。在结晶完成以后,结晶与母液的分离,是由结晶过滤器完成的。结晶过滤器在过滤晶体以前,要经过该器之原位清洗及原位灭菌。该结晶过滤器所用的过滤介质,必须是能耐灭菌温度的、化学稳定的,不会脱落纤维或颗粒的。该过滤介质也要求不挟持结晶颗粒,以避免这些颗粒混入下一批号的可能。



原料药生产中不少场合都要求将压缩空气、热空气、蒸馏水、液态原料及原料药溶液的无菌过滤等。对于这些不同物料、不同状态、不同温度的过滤,都必须结合具体条件选用合适的过滤介质以及过滤装置的结构,来完成除菌、除颗粒的操作。这是过滤装置也必须具备原位清洗、原位灭菌的条件。其过滤效果均应作有效验证。



6、干燥



在原料药生产中干燥也是常见的操作。有中间体的干燥也有成品的干燥。在干燥过程中都不能有外界灰尘、微生物等杂质侵入。进入系统的热空气、料液等都必须经过除菌过滤;在无菌状态所得的结晶在进入干燥装置时也应保持洁净。分批干燥器的容积以能容纳一个批号药物正常运转为度。药物干燥过程中不允许产生粘壁、结团以及物料受热不均匀等,以保证整批均一性。在连续干燥如喷雾干燥等则应严格控制整个干燥过程的操作指标,使整批物料质量均一。



对喷雾干燥,其热空气系统应以能耐热空气温度的高效过滤器将经加热的空气进行过滤。不允许过滤以后再加热,以免加热器表面氧化物脱落进入药品。雾化器要求采用经净化过滤的压缩空气雾化的气流式雾化器。压力式雾化器因高压泵的洁净程度以及离心雾化器高转速轴的密封不能保证洁净要求,迄今均未能被正常投运。



结晶状原料药常用双锥回转真空干燥器。其特点是干燥温度低、干燥速度较快、物料均一性佳。需特别注意的是排气引出管与一侧旋转轴之间的间隙也应满足原位清洗及原位灭菌的要求;复压用的压缩空气也要经洁净过滤。如挥发物是有机溶剂应采用低温冷凝器捕集。



沸腾干燥也是固体颗粒的干燥方法。用于药物干燥,热空气也要求在加热以后过滤,并达到洁净要求。在沸腾干燥的同时喷入洁净的药液或有关料液可以完成药物的造粒,为压片作准备。



沸腾干燥所用热空气除要求洁净以外,其风温、风量要求可精确调节,以保证药物的干燥及正常沸腾,以及投料以前沸腾干燥系统的灭菌。沸腾干燥器也要求可原位清洗及原位灭菌。



对于其他形式干燥器用于药物干燥者,包括结晶—过滤—干燥联合机等应注意:



(1) 传动轴的轴封及轴与壁之间的间隙,要求能清洗及灭菌;

(2) 与药物接触的器壁,内设件如搅拌器等均不得粘附药物;

(3) 热空气在接触药物进行干燥以后,不得重复利用。以免所挟带少量药物在经空气加热器受热变质后影响药物质量;

(4) 与药物直接接触的热空气,应在加热以后进行洁净过滤,以防加热器表面有异物脱落。所用洁净过滤器在操作温度范围内不能脱落过滤介质,如纤维、颗粒等。



7、其他原料药装备



除上述几种原料药装备以外,在原料药生产过程中还有不少其他类设备,这些设备为符合制药要求,应注意以下要求:



(1) 设计或选用的设备应设有清洗口,设备表面应光洁,易清洁。设备内壁应光滑平整,避免死角、砂眼,并能耐腐蚀;

(2) 要求从洁净的工序开始,其所用装备均具原位清洗及灭菌的功能;

(3) 原料药装备所连接的管道应不积存料液,能保证灭菌蒸汽的流通;

(4) 有旋转轴引入的设备,轴封颈与旋转轴的间隙要能满足原位清洗和原位灭菌的要求,磨擦副可能脱落的颗粒应防止其落入物料;

(5) 在灭菌区须保温的设备和管道,在保温层外面要用不锈钢包复,并要求能防止保温材料碎屑逸出。
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摘要:GMP的药品生产全过程的控制管理越来越受到重视,本文在从净化、清洗、在线监测与控制和安全保护四个方面介绍制药设备GMP功能设计及要求基础上,提出相关结构设计内容,对于规范我国制药设备GMP有着积极作用。

关键词:GMP 制药设备 功能设计 结构设计

0 引言

GMP源于美国FDA,其指导思想在于对药品生产全过程的控制管理,以达到药品是“安全”的、“有效”的,实施后产生了良好的社会效果,并迅速地被国际卫生组织WHO及其它国家、地区和制药企业借鉴,迄今在制药行业里有很强的权威性和约束性。通过逐步对制药企业实施GMP'认证,已经初步改变了我国药品生产企业多、小、散、乱的局面,规范了药品生产秩序,促进了制药企业的结构调整和产业升级,使我国的制药企业具备了参一与国际药品市场竞争的能力[1,2]。结合设备GPM的定义,那么所有的药机产品就能产生各自的GPM控制范围和GPM创新构思空间。制药工艺的复杂决定了设备功能的多样化,设备的优劣也主要反映在能否满足使用和环境的适用性上,因此制药设备在制药GMP这一特定条件下的适用性要求就多于普通的机械产品。

1 功能的设计及要求

功能指制药机械在特定的使用和环境条件下,完成基本工艺动作的机电运动功能和操作中使药物及工作室区不被污染等辅助功能。以下只讨沦与GMP有关的主要功能。

1.1 净化功能。洁净是GMP的要点之一,对设备来讲包含两层意思,即:设备自身不对生产环境形成污染以及耳丈对药物产生污染。净化的方而很多,如:水、气、油、尘等,某多功能提取罐设计采用电脑程控,使进、出料全程自动,达到操作生产上人机分离,除此还有自动挤压排渣功能(废渣可燃烧利用),有着与众不同的创新之处,在众多同类产品中显现出强劲的竞争势头。由此,只要设备设计能满足上述要点,合理可行,设备就具有了这种功能。

1.2 清洗功能。GMP提倡的设备就地清洗(CIP)功能,将成为清洗技术的发展方而。国内也有一些CIP报导实例。GMP极其重视对制药系统的中间设备、中间环节的清洗及监测。至于清洁何处、怎样清洗、清洗难易、清洁效果亦应结合考虑,对需要洁洗或不易于清洗的开展CIP功能联想,这样杰出的CIP设计就会不断地产生出来。

1.3 在线监测与控制功能。主要指设备具有分析、处理系统,能自动完成几个工步或工序工作的功能,这也是设备连线、联动操作和控制的前提。GMP要求药品的生产应是连续性的,且工序传输的时间最短。但在目前纯机械及功能单一设备多的情况下,是较难实现这一要求的,与此同时却具有了扩展这一功能的有利条件。针对这些自动化水平不高、分散操作、靠经验操作的人机参予比例大的设备,如何降低传输、周转、间隔,减少人与药物的接触及缩短药物暴露的时间,应成为设备设计及设备改进中重要的指导思想。

1.4 安全保护功能。药物有热敏、吸湿、挥发、反应等不同性质,不注意这些特性就容易造成药物品质的改变,这也是设备设计应注意的问题。因此而产生了诸如防尘、防水、防过热、防爆、防渗入、防静电、防过载等保护功能,并且有些还要考虑在非正常情况下的保护,像高速运转设备的“紧急制动”;高压设备的“安全阀”;粉体动轴密封不得向药物方面泄漏的结构:以及无瓶止灌、自动废弃、卡阻停机、异物剔除等。以往的产品设计中较多注意对主要功能的开发,保护功能相对比较薄弱。现在,在同类产品多、水平又基本相当的情况下,用户需要更完善的功能,使很多药机产品也己考虑转向增加新功能,或对产品改进或更新换代,比如应用仪器、仪表、电脑技术来实现设备操作中预警、显示、处理等来代替人工和靠经验的操作,完善设备的自动操作、自动保护功能,提高产品挡次,开展同类型产品的功能竞争。

2 结构设计及要求

设备的结构被认为是不变性的,设备结构(整体或局部)不合理、不适用,一旦投入使用,要改变几乎是不可能的,如:夹套加热类容器设备的结构,随着规格变大,使用中发现传热受热的均匀性越不好,正态曲线变化的规律越明显,故很多大型设备的正双锥结构改进为长双锥、过去短粗状的多能提取罐改进为蘑菇状。但对制药企业来说多数还是要到设备更新或报废时才能替换,所以设备的结构对生产的影响是先决的。

2.1 在与药物和清洗的有关结构中,结构要素是很主要的方面。制药设备几乎都与药物(药品)有直接、间接的接触、粉体、液体、颗粒、膏体等性状多样,在药物制备中结构通常应有利于物料的流动、位移、反应、交换及清洗等。实践证明设备内的凸凹,槽、台、棱角是最不利物料清除及清洗的,因此要求这些部位的结构要素应尽可能采用大的圆角、斜而、锥角等以免拄带和阻滞物料,这对固定、回转的容器及药机上的盛料、输料机构具有良好的自卸性和易清洗性是极为重要的。另外与药物有关的设备内表面及设备内工作的零件表面(如:搅拌桨等)上,尽可能不设计有台、沟,避免采用螺栓连接的结构。

2.2 制药设备中一些非主要部分结构的设计比较容易被轻视,这恰恰是设备GMP实施中需注意的环节。如:一进口安佤线的隧道干燥箱,结构上未考虑排玻屑,矩形箱底的四角聚积了大量玻屑与循环气流形成污染,为此要采用大修方式才得以清除。

2.3 与药物接触部分的构件,均应具有不附着物料的高光洁度,抛光处理是有效的工艺手段。制药机械中有很多的零部件是采用抛光达到的,随着单面、双面不锈钢抛光板的应用,抛光的物件主要为不锈钢厚板、铸件、焊件等。在制造中抛不到位是经常发生的,故设计需抛光的桨、杆、拨又及饭金成型等零件时,要求外部轮廓结构应力求简洁,尽量为连续回转体而具有易抛到位的条件。其次应注意一个带普遍性的问题,抛光评价中光与亮是视觉和触摸检查得出的两种结论,一些亮的表面其粗糙度值并不一定高,挂带物料往往是表面只“光”不滑所致。

2.4 润滑无疑是机械运动所必需的,特别是药机中相当一部分属台面运动方式的,动杆动轴集中、结构复杂,又都与药品生产有关,加之设备还有清洗的特定要求。而GMP规定无论何种情况润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触,包括掉入、渗入等的可能,这就给设备的润滑与密封设计提出了苛刻的要求。

2.5 制药设备使用中较多存在着不同程度的散尘、散热、散废气、水、汽等,而对药品生产构成威协。要消除它,主要应从设备本身加以解决。散尘在粉体机械中是最多见的,像粉碎、混合、制粒压片、包衣、筛分、干燥等,且多发生在小型机和功能简陋的设备中,以往治理多是由用方结合厂房设施统筹解决,制造方考虑得较少。随GMP的实施、治理的主动性应转向设备的制造上,从目前药品生产状况看,中小批量使设备能连续开机的不多,使用的台数也有不定性,设备能够自身治理对灵活安排生产、降低治理费用和产生良好的适用性都有好处,设备不对室区环境构成污染,这是GMP检查中重要的内容。

参考文献:

[1]金晓庆, 梁毅. 简析GMP建设与ISO14000环境管理系列标准对接[J].中国现代药物应用.2009.11.

[2]单国旗.我国GMP与美国cGMP引发的思考[J].安徽医药.2009.06.



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对于制药设备,2010版GMP规范有着比较严格的要求,大致有设备功能、材质、结果等几个主要的方面

1.功能

功能考察项 具体考察内容 接受标准



洁净功能





对设备所加工的物料进行物理或化学测试,以及密闭性能测试





设备不得与所加工的物料发生化学反应;物理反应应在可接受范围之内;密闭性能良好。






清洗功能





是否具备在线清洗功能,清洗的效果是否符合要求?



若须人工清洁,应根据设备的特点制定清洁方案,做好清洁验证。





无论采取何种清洁方式,清洁效果必须符合规定的标准。






产能与在线监测功能





是否能够满足规定产能,是否具有在线监测与控制功能,操作是否简明、易于维护?





满足产品批次设置的要求,有良好的人际对话界面,易于监测、操控;便于维护。






安全环保功能





是否具有定量测试防尘、防水、防过热、防爆、防渗入、放静电、防过载等功能。





所以安全保障功能测试结果必须符合设备制造商声明的标准。





2.材质

材质确认项 具体确认内容 接受标准



与物料的关系





是否对物料性质、纯度、质量产生影响





所用材料需要具有安全性、辨别性及使用强度,不吸附、不释放颗粒、耐摩擦和冲击等






与清洗、消毒剂的关系





是否对清洗剂、消毒剂的使用不稳定





需具有耐腐蚀、耐油、耐冲洗等性能






与生产环境的关系





是否耐震动,是否不对环境释放颗粒





需具有耐震动、不对环境释放颗粒等性能





3.结构

结构确认 考察内容



主体部件





主体部件应有利于物料的流动、位移、反应、交换、清洗等,尽可能采用大的圆角、斜面、锥角等,以免挂带和阻滞物料






辅助部件





传动部件





①分度、变速机构特点,分度精度或变速范围以及使用寿命



②传动平稳和低噪声以及传动部分的部件不对操作部分产生污染的措施






润滑系统





①润滑要求和方法是否有自动控制润滑的功能;润滑时间和流量是否可调;润滑剂不足时的报警功能。



②润滑系统密封的措施,润滑剂的渗漏率以及对整个系统不产生油污染的相关措施。






安全系统





安全装置是否能安全离合或起超载离合作用。






其他





对启动或液压控制系统、控制原理、主要配置、主要参数以及其他功能。
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