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标题:[未解决]XRD薄膜试样的掠射角如何确定？

  [未解决]本主题悬赏 可用分 10  
boss[使用道具]
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发表于 2010-11-17 22:08 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

XRD薄膜试样的掠射角如何确定？

我的薄膜基底是单晶硅的，膜层是GeSbTe，之前在普通的xrd上做出来的
想问一下大家做薄膜试样掠射角一般是如何确定的呢？
谢谢！
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发表于 2010-11-17 22:12 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
有说掠射角是越小越好
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化工之家[使用道具]
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发表于 2010-11-17 22:15 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
掠射角和膜层成分还有厚度有关
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发表于 2010-11-17 22:18 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
根据具体样品优化掠射角应当是实验者的事啊。
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发表于 2010-11-17 22:20 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
掠角的大小与入射深度有关，角度越大，入射深度越深，角度越小，入射深度越浅。角度越小，在表层的光程就长，角度越大，在表层的光程就越短。所以说，掠角越小越好的说法是有道理的。
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发表于 2010-11-17 22:23 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
如果您是测量多层膜的话，通过改变掠角的大小，可获得不同层膜材料的信息。
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发表于 2010-11-17 22:25 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
可以改变掠角的角度，当角度增大到衍射图中出现了基底的信息的时候就不能再增大角度了
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长啸风停[使用道具]
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发表于 2010-11-20 15:48 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
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