ICP-MS

辉光放电只是在样品的表面进行轰击检测，只检测样品的表面部分，而ICP则是要溶样进行检测，是否就表明ICP-MS对整个样品的检测结果会准确一点？
除去前处理的差别，在灵敏度和稳定性上，两个仪器哪会比较好一些，就测常规的金属元素和P、B来说。

辉光检出限还是要低几个量级的

液体样品分析更加均匀，能够反应出样品元素总体含量水平
辉光测定的是固体表面较小范围

如果样品测定样品表面沾污，而且表面沾污比较一致或者固体样品非常均匀时，辉光的结果可信度还是很高的（比如硅片，高纯金属），而且由于省去样品处理，试剂污染大大降低，并且无存在稀释倍数问题，空白水平大大降低，再加上高分辨检测，自然结果更好。

辉光放电质谱可以轰击到表面数十微米，轰击区域在直径1厘米左右。

是不是表面并不是他们的主要区别所在，GDMS的样品仍然可以通过物理抛除，化学腐蚀等手段来达到要检测的深度或位置。

只是样品的检测量来说，GDMS要少些，也就是说轰击下来的样品量比较少。而ICP差不多要溶解1克的样品。

通常如果材料的纯度不高，分布不均，ICP的取样会更能代表平均效应。但是由于ICP需要液体制样，B,P,S等元素在液体中的背景值会很高。

GDMS具有固体直接进样，检测极限低，一次检测元素多等优势，快捷有效。

个人认为可能还是需要针对您自身的样品进行分析：GDMS是属于微区的分析，但是话又说回来，应该也可以通过分析不同的部位，达到您的目的。ICPMS嘛，自己还没用过，仅仅知道挺多的也是用这个来分析B的，貌似分析得还可以》？？

总的来说，个人认为，在这种目前没有标准分析方法的前提下（估计也很难能够有标准的方法吧？），各种分析测试手段最好都试验一下，找到一种最适合您的实际样品的分析方法。

顺便问个问题：您也是分析硅的么？？
借贵宝地向各位请教个问题：作为分析测试的人员，到底是不是需要了解工艺本身，才能使分析所得到的数据，更具有说服力？？

请问，哪里可以测GDMS？

国内有几家，但是校准都没个谱。推荐SHIVA实验室，我们公司领导去考察过。这家实验室有快二十台这种仪器，校准绝对世界权威，现在已经纳入EAG集团。加上EAG本身拥有NU公司的GDMS，估计现在世界上就EAG集团GDMS保有量最多。

目前看来，GDMS对于硅材料的硼元素测试效果似乎并不明显，EAG方面似乎也承认了GDMS分析硅当中的硼元素的时候，误差还是比较大的（主要是指和SIMS的分析对比）。具体的原因不详。
也希望论坛里能有高手指点下，为何会出现这样的情况呢？

Eag集团并购Shiva实验室后，硅中硼的测定不确定度可以改善。

Shiva的实验室早几年前就被合并了，但是这个问题始终存在的～～