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标题:【求助】铜离子电沉积在CV曲线上氧化峰与还原峰距离

QQ爱[使用道具]
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【求助】铜离子电沉积在CV曲线上氧化峰与还原峰距离

请教铜离子电沉积应该是可逆反应吧,在CV曲线上氧化峰与还原峰距离应该在58mv左右吧?至少在100mv以下,为什么我的CV曲线相差在300mv以上,对吗???谢谢
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yazi[使用道具]
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【回复】

电解液环境不同会有差别,原则上差别那么大应该不是可逆反应了
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小妖精@[使用道具]
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【回复】

但铜离子的电沉积是不是应该是可逆反应才对啊?对吗?
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jishiben[使用道具]
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【回复】

原则上是可逆的,但是电解液环境不同会导致电位出现变化。同时当溶液、电流等发生变化的时候,由于过电位的存在,可能会导致相应氧化还原电位有一定的变化,整体氧化还原峰差距会变大
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xiaoxiaoai[使用道具]
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【回复】

利用循环伏安确定反应是否为可逆反应,一般满足:
1.氧化峰电流与还原峰电流之比的绝对值等于1
2.氧化峰与还原峰电位差约为(59/n)mV (25摄氏度时)
所以如果你的铜离子浓度很低或者工作电极为可溶性电极的话,氧化峰肯定比还原峰大
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大花猫bb[使用道具]
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【回复】

我用的支持电解质为硫酸钠0.1mol,是不是换成硫酸锂会好点?主要是电位差太大了(补充:铜离子浓度为100mg/L)
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mimima[使用道具]
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【回复】

支持电解质为硫酸钠0.1mol,铜离子浓度为100mg/L体系,是不是电位差值会大点?公式2.3RT/NF(59/n)与铜离子浓度关系如何?是不是在标准状态下的计算公式?麻烦您多解释下,谢谢!
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