电分析

最近用CVD，甲烷为碳源做多层石墨烯，在NaOH水溶液电解质中，CV扫出了明显的氧化还原峰。我看到的文献有报道氧化还原法制备的石墨烯在碱性溶液也扫出了类似结果，文献解释说是石墨烯表面存在含氧官能团与氢氧根反应所致。但是，我所制备的石墨烯不大可能存在含氧官能团，温度达1000度，制备过程也几乎不会有氧。我又在硫酸钠溶液扫了一下，没有出现明显的氧化还原峰。在我的印象中，碳材料基本上在酸性或中性电解质中扫CV，碱性似乎不多见。本人才疏学浅，不知哪位大侠多碱性溶液电解质中碳材料的CV有了解，指点迷津，谢了！我个人感觉，氢氧化钠电解质扫CV时出现了类似电池的插层反应，形成赝电容了，欢迎讨论。

文献有类似结果，KOH中扫，氧化还原制备的石墨烯。
J. Phys. Chem. C 2010, 114, 11829–11834

cv 循环伏安？
怎么会有赝电容？
你用空白电极扫着试一下，是不是有赝电容？那也是碳材料，玻碳电极
你用LB把石墨烯取下来的么？

做空白试验看看，应该氧化了，做一下红外看看，祝你好运

我似乎发现了一点线索，可能是电解质中溶解氧的影响。我所用的装置都是自己弄的最简单的三电极池。
参考博士论文：石墨烯及其复合材料对溶解氧还原反应的影响

1)氧化还原峰有多大？含氧基团是会有赝电容，但大不到哪去的，只是有对双电层的CV有扰动效果，不会出现超级明显的峰（除非在低扫速下，高扫速下更不明显）
2)再次 你说在碱性中有峰，但酸性下就没峰，很可能是有金属的存在，不知道是不是跟你制作电极的方法有关系，用了镍网之类的？
3)如果做电容的话，碳材料在碱性电碱液中效果是比较好的

K+比Li+大的多，插层效果应该不会好的
我看你的CV不可能是氧的峰，而且可逆性可以说相当不错
看氧还电位 我怀疑是不是Cu2+ 你用的什么催化剂
总之，我还是认为有金属，因为双电层电容已经很小了，而且峰高且直，在某电位下发生反应是相当的快速，应该是有金属的
如果不是，那我水平有限，爱莫能助了

你用的什么基底 泡沫镍之类的是在碱液里有性能的 祝顺利

泡沫镍是有，但是我已经用浓酸除去了的，而且泡沫镍的峰好像没有那么对称。

泡沫镍建议不要用酸处理，出场的泡沫镍是很洁净的，可以进行除油处理，但是千万不要用酸处理。酸处理过后会极大的加大泡沫镍的赝电容性质。我观察你的氧化还原峰点位不像泡沫镍的电位，我见过的镍的电位一般不会这么高。而且我记得泡沫镍在强碱性溶液中电位在超过0.5以上会有强烈的反应，你可以找一个试一下。我理解不深也只能给你这些建议了。还有我们组做的在还原性气氛高温合成的碳管也依旧会有氧化还原峰，具体什么原因不清楚，我们愿意是催化剂金属造成的