清洗离子源用什么溶剂，起什么作用？

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标题:[未解决]清洗离子源用什么溶剂，起什么作用？

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红杏[使用道具]
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发表于 2007-11-1 09:48 资料个人空间短消息加为好友

小中大

你们清洗离子源时使用的溶剂是什么呢？什么级别的呢？

其中，三氧化二铝是什么作用？其它溶剂有什么要求？

最严格的方法是什么？

可以简化的方法是什么？

怎么样才能判断清洗干净了？

zxz.1982[使用道具]
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发表于 2007-11-1 17:35 资料个人空间短消息加为好友

小中大

我清洗我的离子源一般都是二氯甲烷超声两遍，每次10分钟，然后再丙酮超声两遍，每次10分钟，最后色谱纯甲醇超声两遍，每次10分钟
希望对你能有一定的参考价值
至于三氧化二铝，我从来不用，不知道哟

一般清洗之后，产生的直接结果是质谱背景噪音大大降低

fsciq[使用道具]
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发表于 2007-11-2 10:17 资料个人空间短消息加为好友

小中大

气-质的离子源一般用分析纯丙酮超声30分钟比较好，因为丙酮易挥发，不会影响今后的使用。
三氧化二铝好像只有离子阱质谱采用。是磨擦剂。
离子源一般用专用的超细砂布。

babyduck[使用道具]
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发表于 2007-11-9 09:03 资料个人空间短消息加为好友

小中大

我们一般用甲醇超声两遍，再用丙酮超声两遍，每遍5分钟
三氧化二铝是摩擦剂，用来打磨掉离子源上变脏发乌的地方，但现在我们改用仪器商提供的专用超细砂纸来打磨。

babyduck[使用道具]
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发表于 2007-11-9 09:05 资料个人空间短消息加为好友

小中大

我个人认为用分析纯的即可，洗净后的离子源表现为背景噪音大大降低

matrix[使用道具]
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发表于 2007-11-13 21:44 资料个人空间短消息加为好友

小中大

QUOTE:

原帖由 babyduck 于 2007-11-9 09:03 发表 bbcodeurl('http://bbs.antpedia.com/images/common/back.gif', '%s')
我们一般用甲醇超声两遍，再用丙酮超声两遍，每遍5分钟
三氧化二铝是摩擦剂，用来打磨掉离子源上变脏发乌的地方，但现在我们改用仪器商提供的专用超细砂纸来打磨。 ...

三氧化二铝怎么溶解啊？用有机溶剂，还是水？

gcms[使用道具]
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发表于 2007-11-14 17:45 资料个人空间短消息加为好友

小中大

AL2O3是非常细的粉末，用于搽去碳化的以及表面不均匀的细微物质，使用时和少许水匀成湖状。

dingdang[使用道具]
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发表于 2007-11-18 01:02 资料个人空间短消息加为好友

小中大

网友所提的建议基本上是从GC/MS上考虑的。而LC/MS的离子源总会有一些盐附着在上面，所以应该用水洗一下。

氧化铝粉的颗粒很细（比12000目的砂纸还要细），在工业上是作为精密抛光剂使用，比使用砂纸效果要好，只是麻烦一些。标准做法是用甘油调和氧化铝粉，仔细打磨离子源中的金属零件，去除表面的污染物，然后用水超声清洗，再用有机溶剂如甲醇、丙酮等超声清洗就可以了。现在很多公司提供细砂纸打磨，方便呀！

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标题:[未解决] function setanswer(pid){ if(confirm("您确认要把该回复选为“最佳答案”吗？")){ document.delpost.action='misc.php?action=bestanswer&tid=713&pid=' + pid + '&bestanswersubmit=yes'; document.delpost.submit(); } } 清洗离子源用什么溶剂，起什么作用？

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