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标题:[未解决]【转载】【讨论】场发射的真空就这么牛？

  [未解决]本主题悬赏 可用分 1  
铃儿响叮当[使用道具]
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发表于 2015-8-3 15:55 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

【转载】【讨论】场发射的真空就这么牛？

有朋友让我做几个样品，要求是先用电子束（最好是EDS模式）对一个点进行1分钟的大电流密度辐照，而后一般就会产生一个污染斑，而后倾转样品，使污染斑变成两个，测量二者间距和倾转角，可以得到样品的大致厚度。
问题是：俺们的2100F用EDS模式下打了两分钟压根也没见到污染斑，而他说LaB6的2000FX在EDS模式下，1分钟就轻松搞定。那么难道是场发射的真空太好了？楞没有表面污染？还是LaB6的电子束流密度其实远比FE要高的多？
多谢！
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夜蓝星[使用道具]
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发表于 2015-8-3 15:55 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
是样品太干净了吧？
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发表于 2015-8-3 15:55 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
双喷样品，看起来的确比较干净，可朋友说他看样品也没啥特殊处理啊。难道是样品放置于空气中的时间太短？
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ay123[使用道具]
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发表于 2015-8-3 15:56 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
先用电子束（最好是EDS模式）对一个点进行1分钟的大电流密度辐照，而后一般就会产生一个污染斑，而后倾转样品，使污染斑变成两个，测量二者间距和倾转角，可以得到样品的大致厚度。
这样真的可以测量出样品的厚度吗？我以前试过2100F在EDS模式下是可以打出污染斑的。
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发表于 2015-8-3 16:49 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
不太熟悉，好像某本书里面有用这个方法的，也有用迹线法，但首先也要造污染点。
我们也是2100F，普通碳膜不用EDS模式也能造污染斑，可他的样品不知道为什么一点迹象都没有，是不是聚焦不对劲？
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发表于 2015-8-3 16:49 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
是样品太干净了吧？
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铃儿响叮当[使用道具]
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发表于 2015-8-3 16:50 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
EDS模式下束流密度可不弱
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夜蓝星[使用道具]
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发表于 2015-8-3 16:51 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
这是估算样品厚度的方法是有的。
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small2011[使用道具]
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 小中大
小弟才疏學淺...不曉得那一位天才想出來的...
(或是有那一本書中有提到此法)
就我所知~試片厚度似乎不是用這麼粗糙的方式
去量測
回到問題...
如果你硬要打出痕跡~很簡單~把所有的aperture拿掉~
直接轟試片~
回某樓...
EDS mode的電子束是聚焦束~通常beam大小只有1~5 nm
一定比image mode還弱~
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夜蓝星[使用道具]
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 小中大
不同的测量方法有不同的精度和适用范围，使用时也需要知道一些必要的参数。很多时候只需要对厚度做粗略估算，不需要得到很精确的数值，或者其它方法需要的出参数无法得到。关于用污染斑的方法，可以参考David Williams的书第一版629页，或者第二版670页。拿掉所有光阑直接轰击是做Beam Shower方法，这样得不到污染斑，反而可能越轰越干净。EDS模式是聚焦束，会损失一部分束流，但是光斑很小，所以束流密度反而比普通模式大。
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