透射电镜之家

最近想学习学习高分辨分析中的波函数重构方法，有一些问题想请教各位：
看到李方华老师著作中有写到“出射波重构途径有两个：一个是借助电子全息术，从一幅全息图出发；二是从若干幅不同离焦量的显微像出发”，
1.请问一下这两种方法的比较和优缺点。
2.能不能简单的介绍一些出射波重构的软件。我自己知道的有LinFang 老师自己写的的REW，还有FEI 的商业化Trueimage软件，不知道哪种比较好，想学习学习，请指教。
3. 书中还有介绍李方华老师解卷法进行出射波重构，这个是用什么软件实现的？
小弟不懂，问题外行请多见谅，只是比较感兴趣，自己盲目的看书效率比较低，而且有时候容易进死角，所以来向各位老师学习了，先谢谢各位了

trueimage是uelich的人研发的，应该比较好吧。

1.holography需要硬件，而系列欠焦不用硬件。不太清楚holography的分辨率受什么影响，系列欠焦受temporal coherence影响比较大，其分辨率最好也就信息分辨率。系列欠焦对于样品和电镜的稳定性要求比较高，一般都是做十几二十几套系列欠焦才有一套比较好的，如果你样品对电子束比较敏感就很难做好。现在比较公认的需要采用系列欠焦技术主要是在于缺陷，例如位错，晶界结构方面的研究。
2.trueimage也不咋的，一套好的数据才是最有用的。
3.不知道，你可以看看他们的文献。

你所说的系列欠焦是指波函数重构的方法还是去在一系列欠焦照片中去找结构像？
我自己主要是想做界面缺陷方面的东西,你能给点这方面的建议不？谢谢!

Trueimage需要二十张等离焦间隔的高分辨像，而且成像质量要好，但需要花钱买。如果是已知结构中的缺陷，你可以试一下林芳的REW，可以从完整晶体部分来确定成像条件，而且也可以根据完整部分的重构结果来判断缺陷部分重构的准确性。另外你可以试一下李方华老师的DEC，用的是解卷的方法，相对简单一些。

系列欠焦是做出射波重构的前提
界面缺陷理论和实践上都是没有问题的，主要是要有耐心：首先保证样品和电镜要稳定，漂移比较小，选择的区域有代表性，可以让之后重构中的漂移校正正确的找到漂移量；其次是要采集上它几十个系列，几套数据要得到一个好的重构结果比较难；最后就是耐心的重构了。还有一点就是最好样品上面有非晶，软件需要靠这个来最小化实部。

我也是想尝试一下李方华老师的解卷法，看到她写的书里提到的是借助ECC程序包实现的，你有没有这个程序包哦

VEC可以从网下下载，cuturl('http://cryst.iphy.ac.cn/Download/download.html')。DEC的下载地址我就不知道了。

陈皮老师，我早些时候已经问了李方华老师学生要了这个软件，还是谢谢了。