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标题:[未解决]【转载】【求助】 首次使用时进样系统的清洗

  [未解决]本主题悬赏 可用分 1  
风往尘香[使用道具]
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发表于 2015-9-3 17:03 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

【转载】【求助】 首次使用时进样系统的清洗

各位大侠，请问仪器安装调试过程中发现氧化物含量偏高，可以使用稀氢氟酸（2%）对进样系统进行较长时间清洗吗？
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adg[使用道具]
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发表于 2015-9-3 17:03 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
各位大侠，请问仪器安装调试过程中发现氧化物含量偏高，可以使用稀氢氟酸（2%）对进样系统进行较长时间清洗吗？
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ass[使用道具]
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发表于 2015-9-3 17:04 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
排除了其他所有的因素，确定是进样系统造成的氧化物指数上升的么？
早前用ICPOES的时候，装机遇到过雾化室挂珠，用尽各种方法都无法清洗干净，才不得不用稀（HF+HNO3）混合喷洗。不过这个步骤是仪器厂商的工程师来完成的。
如1L所言，石英的用HF有一定的危害性，如确实是进样系统的污染需要用到HF，建议在厂商工程师指导下完成
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happydream[使用道具]
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发表于 2015-9-3 17:04 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
不能通过调节其它参数将其降下来吗
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