小中大这几个品牌我都用过,各有特点,关键要看用在什么领域!
我用过FEI 的SEM magellan 400系列、FIB Heilios 450,感觉还是相当不错的,
尤其在于低电压低电流的情况下,仍然可以保证很好的resolution,
觉得FEI对于DIE level 20nm 以及28nm,还是不错的选择。
但是对于package 方面,我觉得反而不适合,
关键是stage 太低,工作距离没法保证,每次都要打开主chamber,而且没有必要用那么好的设备,
通常情况,我觉得:用HITACHI足够了,
我觉得日立的界面很人性化,而且操作上手简单,不像FEI软件功能那么多,设备占地相对于FEI不太大,也可以得到很高的resolution;
但是在线宽到40nm以下,日立的成像效果就不如FEI那么好,而且对于低电流和低电压下,很难捕捉到理想的图片。
至于蔡司我没有用过SEM系列,但是用过Nanoprobing,还是不错的设备。