小中大OBLF直读光谱仪操作规程
OBLF直读光谱仪操作规程
试验程序和步骤
１、仪器准备
1.1开机前必须先检查环境条件是否满足仪器要求，温度23±2℃，湿度<75%，确认满足后进行一下操作。
1.2合上主电源开关，再将主机右侧开关旋至ON，即打开主机和电脑。
1.3调节输入仪器的氩气压力和流量，一般氩气瓶减压器出口压力调节至0.35MPa，流量600L/min，且保证氩气具有一定的纯度。气瓶内剩余氩气不得低于1.5Mpa，以备充气前洗瓶使用。
1.4待计算机完全开启后，在Windows目录下用鼠标双击OBLF Win图标启动 程序。在主菜单中点System Values<F2>(系统评价<F2>)检查仪器状态。一般，
（1）Vacuum Value(真空度)，前一个数据是光学系统中的真空值应大于0.8，后一个是真空泵工作时间显示应小于5%
（2）Temperature(温度)
（3） 指光电倍增管上的负高压值，一般情况下在真空值达到0.8以后光电倍增管上会加上950V高压。
（4）Profiling(仿形)，即当前和原始设置的入射狭缝的位置。
1.5一般30分钟至1个小时左右系统值即可达到光谱分析仪特定的范围内，如果没有问题在系统达到真空度后即可进行常规分析，但漂移校正必须在仪器达到高度热稳定后才能进行。
２、样品制备
供分析的样品，最好浇铸成圆柱状，要求均匀，无气孔、砂眼等
铸造缺陷。样品的高度不小于20mm，直径不小于30mm 。制备后的样品应该能代表要分析测试的整体材料，表面要平整光滑、样品要均匀无夹杂和缺陷且所要分析的平面未被污染过。
3、试样分析
试样分析一般选择日常分析和材料牌号控制分析：
3.1日常分析
3.1.1在仪器的主操作界面上点击Analysis（分析）键，然后选择Routine Analysis（日常分析）项目，在弹出的分析基体选择窗口中选中所要分析的基体，点OK键进入选择分析程序画面，选中想要选择的分析程序，点OK键进入设定分析条件画面。在设定分析条件画面中选择Task（任务）、Mode（显示模式）Matrix（分析基体）、Program（分析程序选择），另外输入Sample No(样品号)、Alloy(合金牌号)和Remark(操作者代号)。以上工作完成后按Continue（继续）键进入分析画面。
3.2材料牌号控制分析
3.2.1在仪器的主操作界面上点击Analysis（分析）键，然后选择Quality Analysis（日常分析）项目，进入设定分析条件画面。
3.2.2进入项目分析画面后要注意，此时只有样品号和备注两个项目 可以由用户自己输入改变，其它项目一概不应改变，否则将引起分析结果的错误。填写结束后点击Continue（继续）键进入分析画面。
3.2.3进入分析画面后，将制备好的分析样品放在激发台上，然后按 仪器上的绿色激发按钮即开始第一次激发分析，若激发第二次则重复上述工作。在分析过程中可以点击Set point(设置范围)快捷键查看各元素分析结果是否在设定的范围内，如不在系统会自动将其显示为黄色。
在此分析中，若设定时选择了自动平均，则系统会在各元素分析结果都在误差允许范围内时进行自动平均。如果选择的是手动平均，则可以按Averaging<F7>（平均<F7>）键进行手动平均，在平均后的画面中可以进行删除不正常激发点的工作。如果在设定时选择了储存功能，则光谱仪将按照设定的方式进行分析数据的存储。
分析结束后，可以按Next Sample(下个试样)快捷键或ESC功能键，分析画面将回到分析设定画面，等待下一次的分析设定。
[ 本帖最后由 wccd 于 2012-1-6 19:58 编辑 ]
