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标题: 求文献一篇，谢谢 [打印本页]

作者: artsulas 时间: 2010-6-3 17:37 标题: 求文献一篇，谢谢

标题：Some Illumination on the Mechanism of SiO2 Etching in HF Solutions

期刊：J. Electrochem. Soc.

卷，期，页，年：Volume 130, Issue 3, pp. 708-712 (1983)

作者：Henry Nielsen and David Hackleman

链接：cuturl('http://www.ecsdl.org/vsearch/servlet/VerityServlet?KEY=JESOAN&ONLINE=YES&smode=strresults&sort=rel&maxdisp=25&threshold=0&possible1zone=article&bool1=and&possible2=Some+Illumination+on+the+Mechanism&possible2zone=multi&OUTLOG=NO&viewabs=JESOAN&key=DISPLAY&docID=1&page=1&chapter=0')

多谢！

作者: LUMGR 时间: 2010-6-4 09:21

楼主，要的是不是这个资料，我刚好有保存。。

Some Illumination on the Mechanism of SiO2 Etching in HF Solutions
cuturl('http://www.antpedia.com/?uid-11245-action-viewspace-itemid-73992')

作者: 上海丰核 时间: 2014-6-30 17:10

谢谢楼上，受用了！

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