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标题: 对前一问题的补充(尾矿成分分析) [打印本页]

作者: qclongmz    时间: 2011-4-28 11:58     标题: 对前一问题的补充(尾矿成分分析)

首先是要谢谢各位对问题的回答
该尾矿为硫铁尾矿 其成分主要有 二氧化硅 氧化铁 氧化铝 氧化钙 氧化镁 氧化钠 氧化钾 二氧化钛
对于原子吸收光谱法应该是比较合适的选择
我对原子吸收光谱法的样品处理是比较模糊的   还请各位帮忙给个 样品处理方案
该尾矿成分是比较复杂的 自己能力不足 麻烦各位了





对于金属材料方面的问题 我可以为大家回答哈
作者: wangwei8857    时间: 2011-4-28 17:02

先找到合适的消解方法,但是得到的溶液离子成分肯定复杂,直接测量的话就会有干扰,思考找到适当的分离方法,在配好一系列的标准溶液,再测样品。
作者: ztjnanning    时间: 2011-4-28 17:02

把要测什么说明一下啊!
作者: tiffany199    时间: 2011-4-28 17:03

楼主要测什么元素?可参考相应的国标、行标呀
作者: qclongmz    时间: 2011-4-28 17:47     标题: 回复 #3 ztjnanning 的帖子

铁,钙,硅,镁,铝,钠,钾,钛
作者: fence-straddler    时间: 2011-4-28 17:51     标题: 回复 #1 qclongmz 的帖子

看看这篇文献cuturl('http://journal.yejinfenxi.cn/qikan/manage/wenzhang/2005250619.pdf')
还有这个cuturl('http://wenku.baidu.com/view/37d7dc40336c1eb91a375da3.html')
作者: maomi520    时间: 2011-4-28 22:50

如果不测二氧化硅直接酸溶后过滤应该可以;如果要测,可以考虑酸溶后再碱溶,或者用三酸(硝酸,高氯酸,氢氟酸)溶解,氢氟酸能溶二氧化硅
作者: lvmaomao    时间: 2011-4-28 22:51

氢氟酸和二氧化硅反应生成四氟化硅,会挥发掉!
作者: maomi520    时间: 2011-4-28 22:52     标题: 回复 #8 lvmaomao 的帖子

补充:如要测二氧化硅,又用到氢氟酸,须要在密闭系统中进行消解,如用微波消解仪。

谢谢 lvmaomao的参与,否则我就误人了。。。
作者: lvmaomao    时间: 2011-4-28 22:52

呵呵 测硅的话还是不要用氢氟酸为好!

二氧化硅与氢氟酸反应则生成气态四氟化硅:SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l)
作者: ngoir    时间: 2011-4-28 22:52

LZ想测定尾矿成分中何种元素,有限量要求吗?
作者: wtz010    时间: 2011-4-29 13:46

多元素而且含量大,如果有条件的话还是用ICP做吧,效率高点。
这几个元素有限量要求没?
作者: popshengu    时间: 2011-4-29 13:47



QUOTE:
原帖由 qclongmz 于 2011-4-28 17:47 发表 bbcodeurl('http://bbs.antpedia.com/images/common/back.gif', '%s')
铁,钙,硅,镁,铝,钠,钾,钛

建议ICP做多元素
作者: tiffany199    时间: 2011-4-29 13:47



QUOTE:
原帖由 qclongmz 于 2011-4-28 17:47 发表 bbcodeurl('http://bbs.antpedia.com/images/common/back.gif', '%s')
铁,钙,硅,镁,铝,钠,钾,钛

酸溶,ICP光谱法直接测定。




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