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标题: 【转载】【求助】ICPMS清洗锥能用氧化铝粉清洗吗 [打印本页]

作者: jiushi 时间: 2015-8-7 16:53 标题: 【转载】【求助】ICPMS清洗锥能用氧化铝粉清洗吗

ICPMS清洗锥能用抛光级氧化铝粉清洗吗？有的厂家工程师认为可以，有的认为不行，只能用稀酸浸泡清洗，酸度最好是多少？

作者: nmn 时间: 2015-8-7 16:53

表示氧化铝抛光- -貌似对锥信号影响挺大

作者: shuishui 时间: 2015-8-7 16:54

人的手指触觉大概能分辨300目（约45um）的颗粒，更细颗粒就无法区分了。例如人体触觉只能感觉出1000目、5000目都很细，但究竟哪个更细，不知道。

我用1000目砂纸（大约12um），能把金属表面打磨干净。用5000目砂纸（大约2.5um），顺着同一个方向打磨，金属表面能磨成镜面反照出人影。问题来了：所谓的“抛光级”氧化铝粉，粒径多少目（或者多少um）？如果用了不合适粒径的氧化铝粉（例如500目，而此时人体触觉只能感觉出这很细，但细到什么程度则未知），很容易打磨坏双锥。

作者: teddy 时间: 2015-8-7 16:54

之前有工程师推荐用2000目的氧化铝打磨，但是我们没有试过，不知道效果怎么样，我们一直用稀硝酸擦洗

作者: vbnm 时间: 2015-8-7 16:55

热电是建议用氧化铝擦的不过我用硝酸擦的 2000目这东西要多贵啊？

作者: 艰苦奋斗 时间: 2015-8-7 16:55

其实蛮搞不懂的，这个问题在论坛里老生常谈了。为什么清洗锥一定要用铝粉去打磨呢？稀酸蘸洗就能搞定。再说满足你检测需求就可以，并不一定说一定得把可氧化物和双电荷控制在最低等等之类不具可操性的动作

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