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标题: 当扫描速率和电流成线性关系，说明什么？ [打印本页]

作者: 差不多先生 时间: 2015-10-17 09:43 标题: 当扫描速率和电流成线性关系，说明什么？

想请教一下高手，1.如何从CV图上判定一个反应是否可逆。
2.当扫描速率和电流成线性关系，说明什么？
3.当扫描速率的1/2次方和电流成线性关系时，说明什么？

作者: 孤独的渔夫 时间: 2015-10-17 09:44

本人电化学新手，弱弱的问一句，59/n,中的n是根据发生电极反应的转移电子数确定的吗？

作者: 敬候佳音 时间: 2015-10-17 09:49

1.两个标准，峰电流和峰电位间隔

作者: 倾轻地 时间: 2015-10-17 09:52

可逆性看峰电位之差，就裸玻碳电极来说，峰电位之差在60mV左右；峰电流与扫速成线性说明是表面控制过程；峰电流与扫速的平方根成线性，说明是扩散控制的过程

作者: 雨儿 时间: 2015-10-17 09:56

峰电流相等，峰电位之差在59mV|n左右

作者: 落叶无声 时间: 2015-10-17 09:59

i(pa)/i(pc)~=1
电位差～59mV／n （n电子转移数）

从峰电流与扫速的关系，可以判断电极反应的控制过程

作者: 倾尽温柔 时间: 2015-10-17 10:10

可逆与否主要从峰电流和峰电位来判断。一般峰电位差在100mv以内，说是可逆；200以内说是准可逆；大于200或者只有一个峰，则认为是不可逆的。峰电流与扫速成一次方线性关系，认为是吸附控制的，二分之一次方呈线性，则为扩散控制过程。现在更好的使用log ip与log v的线性的斜率，接近1则为吸附控制，接近0.5则为扩散控制。两者之间则为同时存在两种影响。

作者: 舞疯 时间: 2015-10-17 10:13

氧化峰和还原峰的电流值的差越小，可逆性越好。

作者: 翔少爷 时间: 2015-10-17 10:15

应该注意是电位差=59mV/n(电子转移数)。氧化还原峰电流之比近似等于1。峰电流与扫速的关系如3楼所述：峰电流与扫速成线性说明是表面控制过程；峰电流与扫速的平方根成线性，说明是扩散控制的过程

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