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标题: 【转载】【求助】新手请教探测器分辨率问题！谢谢！ [打印本页]

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:13 标题: 【转载】【求助】新手请教探测器分辨率问题！谢谢！

看书时有几句话不理解。
      1，为什么探测器面积愈小，分辨率愈好？
      2，面积固定情况下，时间常数增加，光子测量量得更准，相应的分辨率也更好，为什么？
      求高手指点下！
      不胜感激！

作者: 铃儿响叮当 时间: 2015-12-25 09:14

这好象有数学模型吧

作者: 小红 时间: 2015-12-25 09:16

说得更具体点嘛……

作者: 小黄 时间: 2015-12-25 09:19 标题: 回复 #1 坚持2011 的帖子

1，没有探测器面积越小，分辨率越好的说法，在探测器里Si-pin的探测器是这样，应该是面积大了工艺上的问题，在SDD探测器分辨率就和面积没有关系了，只能说探测器面积越大，需要制冷的面积就越大，需要的制冷电流就大，本身的发热量也比较高。
2，X荧光测试结果的波动大小和测试的记数率有关，记数率越高测试波动就越小，因为X荧光是单位时间内的随机触发时间，测试时间越长，统计涨落越小，测试结果更稳定，但是和分辨率没有关系。分辨率只和探头的种类和电路的参数设计有关。
不知道楼主看的那本书，能否介绍下。

作者: small2011 时间: 2015-12-25 09:20

针对能量Si-PIN探测器，探测器面积越小，谱峰成型时间越长，线形范围窄，分辨率越高。
能量分辨率与脉冲成型时间常数呈一种极小值曲线分布，故有时适当
选择稍大的脉冲成型时间常数，可有较高的能量分辨率。

作者: 铃儿响叮当 时间: 2015-12-25 09:21 标题: 回复 #1 坚持2011 的帖子

个人理解时间常数增加，则指数衰减越平缓，对于模拟多道来说更容易精确的找到峰值，而对于数字多道检测技术来说，梯形成型后，梯形的平顶部分更平滑，从而提高了检测精度，自然分辨率也会更好。当然为了得到更好的分辨率，在数字多道检测技术中可以选择增加梯形成型时间来实现，这样造成的后果就是死时间会急剧上升。

作者: small2011 时间: 2015-12-25 09:22 标题: 回复 #6 铃儿响叮当的帖子

检测精度好，分辨率就好，可以这样理解不/？

作者: a456 时间: 2015-12-25 09:23 标题: 回复 #7 small2011 的帖子

影响分辨率的因素有很多，诸如探测器本身的理想分辨率，目前SSD探测器理论上能达到125ev，而Si-PIN只能达到145ev。
检测技术本身，抛开检测技术本身，其它相同条件下，数字多道相比模拟多道分辨率会好10%以上。
之前说到的检测精度仅仅是为了说明，梯形的平顶越光滑（平滑），则自然精度越高，相对来说分辨率也会稍好

作者: small2011 时间: 2015-12-25 09:23

其实这俩没有太多必然联系？（精密度和分辨率）

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:24 标题: 回复 #2 铃儿响叮当的帖子

能不能是说得更详细点？

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:25 标题: 回复 #4 小黄的帖子

吉昂《X射线荧光光谱分析》，在第三章，P57，最下面一段讲的。
1.能不能讲下为什么Si-PIN探测器面接越小分辨率越好，现在还不能把分辨率和探测器面积联系起来。
2.能理解你说的测试结果的稳定性和测试时间的关系，但是说时间常数增加相应分辨率更好。
谢谢你！

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:26

多谢大神啊！

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:26

新手，对与 “ 探测器面积越小，谱峰成型时间越长，线形范围窄”的逻辑关系不能理解，版主能不能推荐些材料？谢谢！

作者: 坚持2011 时间: 2015-12-25 09:27 标题: 回复 #7 small2011 的帖子

影响分辨率的因素有很多，诸如探测器本身的理想分辨率，目前SSD探测器理论上能达到125ev，而Si-PIN只能达到145ev。
检测技术本身，抛开检测技术本身，其它相同条件下，数字多道相比模拟多道分辨率会好10%以上。
之前说到的检测精度仅仅是为了说明，梯形的平顶越光滑（平滑），则自然精度越高，相对来说分辨率也会稍好

作者: 小猫 时间: 2015-12-25 09:28

楼上请发表自己的观点啊……

作者: small2011 时间: 2015-12-25 09:28 标题: 回复 #14 坚持2011 的帖子

具体这些还是书上的，是否有人做这方面的研究，有这方面的实验数据。

作者: 但是 时间: 2015-12-25 09:29 标题: 回复 #16 small2011 的帖子

我说的这些都是建立在实验数据之上的。抛开理论值，其余的数据都是有实验数据支撑的。

作者: a456 时间: 2015-12-25 09:30 标题: 回复 #13 坚持2011 的帖子

X荧光成型时间越长，线形氛围越窄，是指成型时间长了，记数率会上不去，记数率太底对样品的分析有限制，比如说一个含铁50%和杂质的标样，如果记数率是1000，那么其中每秒产生500个记数，测试为10秒，总的记数就为5000个，如果说我的记数率是10000，那么每秒产生5000个，10秒后的总记数50000个，如果我们认为含量0的记数为0的话，那么记数率为1000的线形范围就窄了，有些含量根本没办法区分，做出来的曲线只有越陡，分析范围才会越广，我是那么认为的。请大家指教。

作者: 小猫 时间: 2015-12-25 09:31 标题: 回复 #18 a456 的帖子

其实也就是曲线作成后，如果可以通过原点，拟合系数越接近1，所作成的曲线方法就是更好的。

作者: small2011 时间: 2015-12-25 09:32 标题: 回复 #17 但是的帖子

这类实验是如何做的？

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