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标题: 【求助】做EDS线扫描一样，需要先制备涂层的截面试样呢？ [打印本页]

作者: rrra6 时间: 2015-12-26 11:38 标题: 【求助】做EDS线扫描一样，需要先制备涂层的截面试样呢？

我的试样是被氧化了的涂层试样，想知道氧化层的成分分布。我看到有的文献中采用的是俄歇电子进行测试的。采用俄歇电子进行测试的时候，电子是从涂层的表面往下打，还是像做EDS线扫描一样，需要先制备涂层的截面试样呢？
还需要对试样进行什么特别的处理吗？这样的测试会不会对试样造成破坏？
另外，我看文献中，用俄歇电子测量的成分深度分析时，涂层都是纳米级别的。而且刻蚀的时间很长，都要一两百分钟的。现在我要看的涂层氧化层的厚度是10微米左右，会不会超过俄歇电子的测试范围呀？
求高人指点~~~~小妹不胜感激！

作者: mimima 时间: 2015-12-26 11:38 标题: 【回复】

试样表面的氧化和污染会影响俄歇电子谱的分析，况且俄歇电子只对轻元素敏感，不知道你这个氧化层是不是对最终的俄歇电子谱产生影响。现在材料检测分析主要基本集中在电镜，用俄歇电子谱仪的比较少吧。

作者: 哈密瓜 时间: 2015-12-26 11:39 标题: 【回复】

俄歇电子谱可以做深度分析。是通过Ar离子溅射掉一层氧化物，然后再进行俄歇信号采集，溅射掉氧化物的厚度与溅射时间有关。由于俄歇本身的探测深度很浅，一般是再几个纳米深左右，所以可以这样逐层分析。但是氧化膜不能太厚（几十个到几百个纳米为宜，不宜再大），氧化膜太厚的话，需要溅射的时间和俄歇信号采集的次数越多，费用往往比较昂贵。
希望对你有帮助。

作者: wawa11 时间: 2015-12-26 11:39 标题: 【回复】

俄歇应该不破坏样品的

作者: 冰激凌 时间: 2015-12-26 11:39 标题: 【回复】

我试样的原来的涂层是TiCN, 氧化后变成了TiO2

作者: 8899 时间: 2015-12-26 11:40 标题: 【回复】

我试样原始厚度是4-6个微米，氧化后都有8-9个微米左右。这样看来，是不是不太适合做俄歇电子呀？

作者: 兔子 时间: 2015-12-26 11:40 标题: 【回复】

我之前做过氧化层分析,约厚1微米,当时溅射到基体用了挺长时间.你这厚度确实有点大,你可以问问俄歇分析的老师,看看费用高不.

作者: xgy412 时间: 2015-12-26 11:41 标题: 【回复】

同意楼上的说法，做刻蚀才能做深度检测，但收费是很高的。

作者: hcy517 时间: 2015-12-26 11:41 标题: 【回复】

你的1微米当时溅射了多久呢?

作者: jishiben 时间: 2015-12-26 11:41 标题: 【回复】

2900秒。其实溅射并不是很贵，主要是溅射掉一层后进行俄歇信号采集比较慢，花费时间比较多，而且采集次数越多，价格越贵。

作者: yayayu 时间: 2015-12-26 11:42 标题: 【回复】

溅射的快慢还要看涂层材料，像碳膜就很慢。

作者: yuanyuan 时间: 2015-12-26 11:42 标题: 【回复】

你的试样明显太厚了，应该离子减薄以后再做，一般要求一微米以下，太厚了对离子枪有损害人家不愿意做。再有就是不会破坏样品，只是有一个区域被溅射掉了

作者: yayayu 时间: 2015-12-26 11:43 标题: 【回复】

您好，请问哪里可以做俄歇电子。我也有个样品想测量氧化膜厚度，大概几十nm。

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