标题:
【求助】介孔硅的XRD表征出现这样的图谱为什么 ?
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作者:
8黑眼圈8
时间:
2016-2-19 15:49
标题:
【求助】介孔硅的XRD表征出现这样的图谱为什么 ?
照着文献中的方法,用阴离子表面活性剂为模板合成的介孔硅,在0.5度-10度进行XRD表征 ,结果出现的图谱和文献中说的在1度-2度出现一个较宽的峰不同,而是没有出现峰,直接在0,5度开始呈逐渐减低的趋势,这是为什么?难道做的介孔硅没成功,只是一些颗粒么?附图如下,求解惑。
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作者:
okhaha
时间:
2016-2-19 15:49
如果样品没有问题的话,那就是 仪器的性能不够!
作者:
woshi
时间:
2016-2-19 15:50
如果与文献相比,XRD表征结果比较差,那肯定是合成过程中出现问题了!
作者:
zhenxin
时间:
2016-2-19 15:50
这样的谱图,可能是材料本身的原因,但是也有可能是楼主压片的原因,你松紧多压几次样品试一试。
作者:
8黑眼圈8
时间:
2016-2-19 15:51
把步长调到最小试一下,如果还是这样那就是样品的问题
作者:
ujne
时间:
2016-2-19 15:51
先确定结果有没有问题吧,多测几次,样做好一些,表面压平,如果还是这样,那可能是材料的问题了。能找到相似的参考文献的话,参考一下别人怎么做的。
作者:
cocacola
时间:
2016-2-19 15:52
是不是做出无定形的东西了,一点峰都没出啊
作者:
wiwi
时间:
2016-2-19 15:52
扫描速度是不是太快了 一般零点几度每分钟 小角狭缝相比广角要换成更小的 我们这是广角用1.5mm的 小角换成0.6mm 也有可能是样品的问题 介孔有序度比较差
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