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标题: 【转载】【讨论】ICP背景强度与哪些因素有关？ [打印本页]

作者: jkh123 时间: 2016-2-21 16:41 标题: 【转载】【讨论】ICP背景强度与哪些因素有关？

ICP背景强度与哪些因素有关？

作者: 龙泉 时间: 2016-2-21 16:41

背景强度与基质（样品类型，试剂和纯水质量）有关。

作者: ayanyang 时间: 2016-2-21 16:42

背景强度跟元素干扰线有关？

作者: jom 时间: 2016-2-21 16:42

基体试剂空白等

作者: 小黄 时间: 2016-2-21 16:43

基体谱线干扰空白以及仪器本身都有影响

作者: 小红 时间: 2016-2-21 16:43 标题: 回复 #2 龙泉的帖子

老师我是新人，问下您啊。那这样的话同一样品里边，不同元素的背景强度应该一致的才对啊。但现实结果是不一致的。还有就是背景强度是由于什么而被仪器测量出来的。我看有些文献说是暗电流引起的。

作者: 龙泉 时间: 2016-2-21 16:44 标题: 回复 #6 小红的帖子

不一致是正常的。因为每个元素的信噪比不同啊

作者: 小红 时间: 2016-2-21 16:45 标题: 回复 #7 龙泉的帖子

我知道ＩＣＰ中应该是信背比吧，我知道信背比肯定不一样啊，我的疑问的单单背景强度的大小由于基质一致，那么样品中所有元素的背景强度是否应该一致呢？还有不一致又是因为什么原因引起的呢。

作者: ay123 时间: 2016-2-21 16:45

信背比是不同元素与噪音，基质噪音可能一致性

作者: 但是 时间: 2016-2-21 16:45

ICP-OES测试元素背景强度每个元素是不一致的，同一浓度的各个元素，与元素本身的性质有关，也与载气流速有关

作者: small2011 时间: 2016-2-21 16:46

ICP OES的背景来源：
1 电子、离子复合辐射
2 分子辐射
3 杂散光
1和2与样品基质有关
3与仪器的设计有关

作者: 铃儿响叮当 时间: 2016-2-21 16:46

元素之间的干扰也会有影响！

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