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标题: 【转载】：【讨论】压片前的研磨如何防止引入污染 [打印本页]

作者: 艰苦奋斗 时间: 2016-4-11 17:46 标题: 【转载】：【讨论】压片前的研磨如何防止引入污染

最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质，选取了几个供应商的产品，想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小，

但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si，用碳化钨球磨有可能引入W，所以比较头疼，问问大家有没有这方面的经验和好的意见？

作者: 风往尘香 时间: 2016-4-11 17:47

看来你的材料比较硬！

什么状态？粉末还是块状

作者: jiushi 时间: 2016-4-11 17:47

比较脆的颗粒

作者: adg 时间: 2016-4-11 17:47

那不行用材料包裹下仿制污染到样品不知道锡箔纸行不行

作者: ass 时间: 2016-4-11 17:48

包着用研钵研磨？

作者: happydream 时间: 2016-4-11 17:48

是的不知道此方法是否可行

作者: iop 时间: 2016-4-11 17:49

如果不硬，我感觉不用考虑引入污染的问题吧？

作者: jiankufanhan 时间: 2016-4-11 17:49

但要磨成粒度一致吧，我是要测相对含量大小的，比较cps高低。否则粒度效应会影响荧光强度的

作者: nmn 时间: 2016-4-11 17:50

分析纯物质中的杂质，以XRF的恐怕有些难度，如果要定量分析用粉末压片法就更不靠谱了。

作者: shuishui 时间: 2016-4-11 17:50

楼主可以实验看看，试样没那么容易被碳化钨污染，即便有的话，XRF扫描估计也看不到对应的峰，况且碳化钨引入的杂质也不仅仅是W，碳化钨也掺杂有其他金属。真要探讨碳化钨模具对试样的污染，估计得搬出MS吧。

作者: teddy 时间: 2016-4-11 17:50

W 的峰应该是看不出的，所以准备用球磨机试验一下。

作者: vbnm 时间: 2016-4-11 17:51

我磨白刚玉，钨的引入量达到0.8%-1%，这个能接受不？

作者: 艰苦奋斗 时间: 2016-4-11 17:51

这个含量太高，几个ppm还能接受

作者: 风往尘香 时间: 2016-4-11 17:52

那你们用什么设备研磨？

作者: jiushi 时间: 2016-4-11 17:52

碳化钨球磨机

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