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标题: 【转载】：：【求助】石墨炉背景校正能力大于200倍 [打印本页]

作者: 艰苦奋斗 时间: 2016-4-26 19:19 标题: 【转载】：：【求助】石墨炉背景校正能力大于200倍

如题。这个大于200倍是怎样得来的？我忘记了。求助。

作者: 风往尘香 时间: 2016-4-26 19:21

石墨炉的话，一般是测铅，进一定浓度的氯化钠溶液，调节进样量，使A1（背景校正前）为1Abs左右，再进同样浓度的同样进样量的氯化钠溶液，采用扣背景方式，读取吸光度值A2,计算A1除以A2值

火焰的话，一般直接采用光衰减器使A1为1Abs左右，同样处理

作者: jiushi 时间: 2016-4-26 19:21

氯化钠的分子吸收强，用来测背景校正能力倒是不错的做法。不过要计算200倍而用到了1Abs，这个值超出了石墨炉能做到的线性范围，所以应该不好说了吧？

作者: adg 时间: 2016-4-26 19:21

这个跟石墨炉的线性范围无关，只是为了验证仪器在有1Abs左右的背景干扰下，仪器的背景校正能力，比如说100倍背景校正能力，扣背景后吸光度还有0.01，这个0.01的数值是会直接影响到最后的样品分析结果的。至于为什么需要用到1Abs的背景干扰去验证，个人认为只有背景干扰足够大，才能更好的去判断一台仪器的校正能力是否足够好。

作者: ass 时间: 2016-4-26 19:22

当计算背景校正能力时，如果扣背景前、后吸光度分别为1A与0.01A，则认为是100倍扣背景校正能力，我觉得这里1A/0.01A=100就是假设了线性关系，不知是不是这样？

作者: happydream 时间: 2016-4-26 19:23

不是这样的，1A的信号来源全是氯化钠的背景分子吸收，而不是铅的原子吸收。

而我们采用扣背景方式后测得0.01A，应该理解为是铅的原子吸收，假设扣背景能力非常好的话，这个数值应该是趋向于0。这样我们在采用扣背景方式分析时才不会存在背景干扰。

作者: iop 时间: 2016-4-26 19:24

谢谢冰斗的及时解答！

作者: iop 时间: 2016-4-26 19:24

200倍那么高啊？

我记得可以用Cd灯 228.8nm ，用1mg/ml的氯化钠溶液，进样10ul（可以适当加量），

使得到一个1ABS的吸光度，软件上看到AA和ABS，AA/ABS=背景校正倍数

作者: jiankufanhan 时间: 2016-4-26 19:25

如果在228.8nm 用氯化钠检验，需要保证其纯度。

作者: jiankufanhan 时间: 2016-4-26 19:25

扣背景能力是国内原子吸收仪器验收规程的一项指标，用来检验高背景吸收时对分析信号的影响，通常如果信号比较缓慢，使没有扣背景能力问题的，这项指标通常只针对石墨炉分析。

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