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标题:[未解决]【求助】GCMS测 打八甲基环四硅氧烷的问题

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chenxiaohu[使用道具]
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【求助】GCMS测 打八甲基环四硅氧烷的问题

我用GC-ms, 柱是HP-35MS,打八甲基环四硅氧烷的时候发现,就是在溶剂中也会有很高的响应,不知道是什么原因?

我用的溶剂是乙酸乙酯,发现溶剂 M/Z 281有很大的响应,最初怀疑是溶剂有问题,

后来用LC的甲醇,发现也有同样的问题,说明不是溶剂的原因,

大家有什么好的办解决吗?、
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  • miracle   2012-7-24 00:57  可用分  +3   鼓励发起讨论,欢迎常来交流! ...
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Tara0416[使用道具]
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回复 #1 chenxiaohu 的帖子

先检查溶剂背景有没有目标物,有时候衬管柱子也会残存或流失也有281离子。
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Doctorcbw[使用道具]
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回复 #1 chenxiaohu 的帖子

DB-5MS在高温时候会有流失,有281离子等。请问你使用的柱温是多少?
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owoo[使用道具]
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回复 #1 chenxiaohu 的帖子

是不是柱子或隔垫流失呢?不进样运行一下试试。
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HEC_css[使用道具]
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回复 #1 chenxiaohu 的帖子

估计是柱流失或者隔垫流失。楼主先确认是气相部分的流失还是质谱的污染。
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