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转载：二次离子质谱分类

　　采用脉冲一次离子源(LMIG, Cs, C60,Au，O2+,Ar+)等轰击样品，然后收集从样品表面激发出来的二次离子，采用质谱检测器(飞行时间、四极杆、扇形磁过滤、离子阱等)，来收集这些二次离子，并且根据他们的质荷比(m/z)将它们分离，据此来判断分析材料的成分。

　　二次离子质谱仪分为静态- 二次离子质谱仪(S-SIMS) 和动态二次离子质谱仪(D-SIMS) ，其区分的标准就是根据入射的一次离子的剂量一般<10^12atoms/cm2，成为静态二次离子质谱仪，一般采用飞行时间检测器，主要用于生物医药的有机物分析，半导体材料的污染物分析，存储材料分析，可以坚定有机的分子碎片。在分析过程中，材料表面的吸附物质及化学状态，对谱峰影响巨大。这也就是二次离子质谱中的“基体效应”。静态-二次离子质谱是一种无破坏的表面分析方法。最常见的静态- 二次离子质谱仪是飞行时间二次离子质谱仪。飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)利用一次脉冲离子轰击样品，通过表面激发出的二次离子的飞行时间测量其质量(m/z < 100,000)，以分析样品的表面组成。

　　动态-二次离子质谱仪，入射的一次离子的剂量一般<10^15atoms/cm2，对表面形成大量的溅射作用，是一种破坏性分析，主要用于地质研究，同位素定年分析，半导体掺杂的深度分析。主要采用的一次离子源为气体等离子源(Ar/O2)或Cs离子源，一般要求样品导电性要好。