原子发射(ICP） » 讨论区 » 分析百问 » 【转载】【讨论】ICP光室使用气体吹扫怎么保证吹扫干净？

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标题:[未解决]【转载】【讨论】ICP光室使用气体吹扫怎么保证吹扫干净？

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发表于 2015-4-17 07:39 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #14 大学习 的帖子

以前测Pb,Cd,Hg,Cr，除了Hg其他不错
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铃儿响叮当[使用道具]
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发表于 2015-4-17 07:40 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #17 大学习 的帖子

就是吹不干净 这个意思 敞开设计 要用氩气不停吹扫空气水分 这个过程是在循环的 室内的空气会进入 吹走的会被排出 你能保证 这个流动过程 ccd or cid  表面接触不到空气和水吗  第四代技术就不需要吹扫  干燥剂去除不了所有  去除不了所有 真空紫外区你就做不稳 做不准 不知道你还看明白了
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红旗渠[使用道具]
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发表于 2015-4-17 07:40 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
选一个紫外区波长，比如5ppm的S(181.97nm)，重复测量，强度稳定了，基本光室也置换干净了，我们瓦里安的机子，一般做样前提前半小时到一小时打开高吹
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发表于 2015-4-17 07:41 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #14 大学习 的帖子

这个是单道扫描型的，测不了190一下的
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小牛牛[使用道具]
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发表于 2015-4-17 07:41 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #20 大学习 的帖子

分布式吹扫，是在光室内部分布一些管路，每隔5cm开一个小口，在开启吹扫气的时候，氩气或氮气从气路进入光室，光室内部，气体从这些小口吹出，这样可以保证整个光室的各个地方都在吹扫，节约吹扫的时间，间接的节约氩气。
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