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标题:【求助】,CV扫出了明显的氧化还原峰

huali[使用道具]
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【回复】

电位问题,应该与参比电极有关,我认为应该最可能就是如楼上所说有金属残留。
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efp[使用道具]
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【回复】

OH-插层反应应该是很难进行的~你是不是CV的范围太宽啦,出现析氢析氧反应了?OH-浓度过高的话,析氧过电位就降低了~再有就是CVD的基底会不会有反应呢? CV的图给大家看看是啥样子的啊
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跳跳哈里[使用道具]
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【回复】

CV曲线见楼上第一个图,是已经除去金属镍衬底的测试曲线。析氧反应,好像不是那个样子吧,而且测试时我没有看到有明显气泡。我感觉,楼上有人说是残余金属离子的原因,具体反应还是太清楚,不过这一点有可能,但是EDS没有检测出残余金属镍,可能是灵敏度的问题。还有就是可不可能是电解质阳离子Na的嵌入反应,不过反应速度似乎没那么快和可逆。
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wwwh[使用道具]
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【回复】

个人认为应该是酸处理腐蚀掉泡沫镍表面部分氧化镍保护层,而同时会形成新的多孔结构,而这些新暴露的镍与多孔会增大泡沫镍的超电容性能。具体的表征测试我没有做过,但是我对于酸处理泡沫镍会增大泡沫镍本身的电容性能我进行过多次测试,应该是很可信的
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PP熊[使用道具]
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【回复】

石墨烯在氢氧化钠中扫出了氧化还原峰,怀疑有残余的金属镍存在。
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QQ爱[使用道具]
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【回复】

请问楼主产生峰的原因找到了吗?我也出现了类似情况,GO在700℃煅烧后在2MKOH中也产生相似的峰,困惑求解啊,是不是官能团残留,还是烧的过程中有杂质进入
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