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标题:[未解决]【转载】【求助】ICP-OES背景過高

  [未解决]本主题悬赏 可用分 1  
a456[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:49 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

【转载】【求助】ICP-OES背景過高

瓦里安的ICP-OES(VISTA-MAX)標液和樣品的背景是之前的一倍，例如：Al的0.1PPM的背景，以前的是17691，現在的是29527.請求各位大神指點。謝謝！
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jkh123[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:50 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
在背景提高之前，仪器的硬件有更换部件或做暗电流扫描吗？
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ayanyang[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:50 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
仪器状态发生了变化？
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发表于 2015-7-18 06:51 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
标液与样品背景都高，试剂基质怎么样？进样系统检查了吗？是个别元素还是所有元素背景都高了？
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发表于 2015-7-18 06:51 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #2 jkh123 的帖子

在背景提高之前，仪器的硬件沒有有更换部件。做了幾次的暗電流扫描、波長校正和硬件校正。情況沒有改善。
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a456[使用道具]
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 小中大

回复 #4 ay123 的帖子

试剂基质和之前的一樣，沒變。換了幾個霧化器和霧化室，沒用。是全部的元素都高了。
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发表于 2015-7-18 06:52 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
做做质控样看看，仪器信号飘移是存在的
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jkh123[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:53 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #2 jkh123 的帖子

硬件校正能通过吗？
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ay123[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:53 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #6 a456 的帖子

这个可能是仪器状态了，校正下仪器
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小红[使用道具]
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发表于 2015-7-18 06:54 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
该清洗维护了吧？！
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