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标题:[未解决]关于碳化钨形成

  [未解决]本主题悬赏 可用分 10  
lucky[使用道具]
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发表于 2011-8-24 22:01 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

关于碳化钨形成

在Si基底上预溅了一层W，然后在W层上面沉积了一层碳纳米管薄膜，经700~900度，1~2h真空退火后，仍然没有检出有碳化物(WC、W2C)形成。

请问退火温度和时间应该在多少才能让碳纳米管中的C和底下的W层形成碳化钨呢？
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加盐的咖啡[使用道具]
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发表于 2011-8-24 22:04 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
你提高温度。做个实验啊。
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真善美[使用道具]
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发表于 2011-8-24 22:07 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
这问题你得去找相关文献看了......
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nini[使用道具]
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发表于 2011-8-24 22:11 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
正常WC的形成温度应该在1300~1400度左右
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发表于 2011-8-24 22:13 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
按你们现有的处理温度,在处理前应该将W粉进行球磨活化(需要研磨约50H)
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发表于 2011-8-24 22:16 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
碳和铬要形成铬碳化物是要在多少温度下？
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化工之家[使用道具]
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发表于 2011-8-24 22:20 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
温度太低了
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