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喷碳的主要考虑还是能谱吧。对于不导电样品的能谱分析,表面要求覆盖导电的碳膜,这是写在能谱法定量分析的国家标准里的。至于高分子体系,由于基体含大量的碳,所以一般做成分分析的时候也不会对碳做定量,反正能谱对于碳这类轻元素本来就不靠谱。通常高分子研究在意的反而是体系中的其他相对较重的元素,如镁、铝、硫、硅等等,这些元素通常是比金要轻很多的。如果喷金,由于金对X射线发射和吸收的能力都太强,严重影响能谱对较轻元素的定量。所以采用喷碳的方式,即增加表面导电性,又减少对能谱分析的影响。
另外一个考虑是对与形貌起伏不大的高分子样品。对于不导电又易损伤的高分子样品,即使喷上导电层,加速电压不可能太高,入射电子对于样品表面的穿透能力有限,如果喷金,看到的只是金层覆盖的表面形貌。高分子研究中经常会遇到表面起伏不大,且需要分辨成分衬度的样品,例如高分子材料断面、切片等等。如果喷金,只能看到形貌信息,对于成分信息大部分都被金掩盖了。而采用喷碳,有助于这部分成分信息的显现。
至于技术上,通常的真空蒸碳设备是比溅射喷金的设备大,耗时长。不过较新一点的设备都不至于要一个小时了。另外,现在也有集成真空蒸碳和溅射喷金两种功能的设备,用起来也很方便,喷碳不比喷金慢。楼主可以考虑一下这种设备。