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说实话，事非经过不知难，指望在网上找答案和危险，感觉不可靠，一下只是一家之言，别太当真
1 SERS的衬底很多
EC-ORC 最早最简单的衬底，就是把高纯币金属清洗，抛光，然后经过若干电化学氧化-还原循环CV得到粗糙表面，电介质一般是KCL或者硫酸。此法以银为简单，金比较难，铜我没做过。
银简单但是易氧化，如果之后在大气环境里做SERS，我一般会在ORC后吧衬底防尘暴露2小时，让银氧化，表面形成氧化银膜，以免此氧化过程影响测量。金直接氧化很难，据说电位要求比较高，也有用ORC银上化学镀或者电镀金的，但合金衬底对谱解读不利。金衬底难，但相对银而言，稳定性高很多。总的的来说，OCR衬底很多文献说重复性比较差，但实际配合rotating法等平均技术，重复性不见得不好
化学腐蚀，用酸，直接腐蚀，和ORC衬底类似
evaporation 用溅射等方法把单质金或者银直接沉积在玻璃上得到粗糙金属薄膜，
金溶胶，银溶胶，聚集或者非聚集的都可以，聚集的金属溶胶实际形成分形fractal表面，在聚集体的某些位置可以形成很高的电磁场，但这些位置分布很不均匀且难以预知，增强的时域涨落很大。
以上的衬底活性位置相当randomly distributed，增强作用非均匀各向异性，而且真正其增强作用的结构往往是至今10nm左右的nanorod，沿长轴nanorod易极化，增强效果好。或者金属膜上的亚纳米尖锐结构cluster，既是优先吸附位又是“电磁场超级增强器”（lightning rod effect）可能这种万里挑一的cluster是几百平方纳米内的惟一的对增强贡献者，据文献报道 ，此类结构的增强可达13次方量级，实际测量到的增强时整个区域的平均值，一般低至少两个数量级。
若是做稳态SERS，即摄谱时间/积分时间大于分钟，则以上的这些非均匀因素影响不大，但是做时间分辨SERS的话，结果的时间-，空间可重复性问题就出来了。
NP array，MFON
貌似是西北大学van duyne组最早搞出来的，为了解决以上的空间上的非均匀性问题，将单分散的金或者银或者同NP通过某种方式自主装于惰性衬底上，但大面积的NP array，比如平方毫米级的均匀的几十纳米的金属NP array似乎没有报道，（要谁知道告诉我一声，100金币）。或者用易组装的SiO2 NP，PS做模板，然后金属化得到MFON衬底，也可以超声/腐蚀脱模，在NP的间隙处得到规则阵列，还可以再退火，得到近半球形阵列。
光刻衬底，
很贵，很贵，因为如果要求光刻线宽在50纳米的话，基本上之后电子束光刻EB可用，要制作平方毫米尺寸的衬底费时，而且仪器不好找。
plasmonic 衬底，光子晶体衬底
理论研究阶段
其实衬底的非均匀性无处不在，尤其是原子级的非均匀性，所以分形是任何严格测量必须考虑的。
笼统的谈增强因子EF不现实，不同的adsorbate，不同的预算和现实，决定了衬底的选择，增强机制里，电磁增强机制EM远比化学增强机制CHEM贡献大，尤其对物理吸附的分子，金银做衬底的话，CHEM几乎无需考虑。
如果要求检出，则考虑高增强因子，选银溶胶做衬底，激发波长选检出物的共振波长。理论上，增强10个量级不难，但实际操作4个量级已经比较高了。
要求结果高重复性reproducitbility，则要求衬底的规则性高，实验做到4个量级增强可行。
不稳定因素主要是，
衬底非均匀性，上文已述。
衬底的稳定性，比如测量过程中的氧化，对银衬底，和电化学SERS尤其得注意。
光化学过程，如，光降解，上文说了，cluster是优先的吸附位，强的光场放大位，还有一点，它还是高催化活性位，此处发生光化学反映，应该很容易，一般用离焦测量
对焦，机械扰动，
理论归理论，操作是操作，所以我说事非经过不知难。
2 EF的具体计算用了很多近似和模型，可参考厦大 田中群 的文章，英文的或者厦大 固体表面物理化学若干研究前沿 第7章。
3 气相SERS可以做，最低检测下限，在实验设计合理的前提下，可以做到单分子。但如果定量分析混合物，恐怕很难，类似红外的问题
4 吸附量低，可以考虑在金属衬底上coating易吸附苯系VOC的物质，SERS的增强在衬底以上至少10纳米内有效
5 提高吸附量貌似是唯一途径
