ICP-MS

对于安捷伦7700X而言，dilution Gas相当于稀释气，主要对于高盐基体起到一个气体稀释的作用。make up gas是辅助气或者叫补偿气。对于雾化室而言，雾化效率最好的气体流速是一定的，我们这里一般会设置在0.8L/min左右，但是这样的气体流速将雾化后的样品雾滴传输到等离子体的效率不高，所以一般要加一路气提高气体流速，更好地将样品传输到等离子体，这路气就是Makeup gas，两路气加在一起的流速大约在1.0—1.2L/min，太高太低均不利于样品的传输。我们的设置时载气0.8L/min.make up gas 0.26L/min.而dilution Gas和make up gas一般是只设置一个。即carrier Gas + make up gas 或者carrier Gas+ dilution gas =1.0—1.2L/min。

ICP-MS 常规都有三路气

[1] 等离子气或冷却气 Plasma/Coolant  Gas=14~15 L/min

[2] 辅助气或中路气  Auxiliary/Intermediate Gas=0.9~1.1 L/min，对灵敏度略有影响

[3] 雾化气或载气 Nebulizer/Carrier Gas=0.8~0.9 L/min，对灵敏度、氧化物产率影响很大



[4] 安捷伦在double pass 雾化室上有第四路气：补偿气 Makeup Gas——即楼主贴图的“混合气”。

6楼handc 与10楼jieqian1211 两位版友已经说了：Carrier Gas+Makeup Gas 之和，差不多是一个恒定值。



[5] 在雾化室与炬管之间的玻璃连接杆上，有第五路气：稀释气 Dilution Gas。

雾化器吸取液体、喷出雾滴。气溶胶粒径有大有小，再由雾化室进行粒径分选：粒径<8um的气溶胶能顺利通过雾化室进入炬管，被ICP有效电离(这部分气溶胶只占气溶胶总数的1-2%)，剩余的大粒径气溶胶则在重力作用下汇入雾化室导流槽，被当做废液排走。在连接杆上通入稀释气，可对高盐基体High Matrix Introduction(比如海水)进行气溶胶稀释。



[6] 10楼jieqian1211 版友提到：“make up gas是辅助气或者叫补偿气”。这句话是错的，辅助气与补偿气是两回事。安捷伦调谐界面中，等离子气与辅助气流量不开放给普通用户调节，只有进入高阶模式才能修改。

我一直以为是一回事呢，学习了

Peltier冷却雾室中Peltier用什么来冷却啊，回流水？Peltier是什么意思？

Peltier 帕尔特效应

cuturl('http://baike.baidu.com/view/2796274.htm')



Peltier 冷却雾化室与 ICP-MS循环水机相连

其实，我一直觉得timstoicpms老师是位大神。昨天有幸还被“阶前尘”推荐做本版面的版主。实来“新窦”主管盛情难却才忐忑不安的勉为其难的试试。不好意思，给组织拖后腿了！这不，今天发帖讨论，还被timstoicpms老师狠狠“鄙视”了一番，学习长进中。。。

timstoicpms老师应该是某所学校的教授，在timstoicpms老师的帮助下学到了很多知识，在此表示感谢。论坛给大家提供了一个很好的交流学习平台。

关于这个问题，安捷伦的资料中也比较混乱，比如：• Makeup Gas

Makes up Ar gas into the spray chamber is mixed with the carrier gas.

When the Ar gas supply pressure is not high enough to get a sufficient

carrier gas flow, the makeup gas is used (e.g. cool plasma condition).

• Optional Gas

When the optional gas line is added, it is possible to introduce gas

other than argon (e.g. introduction of oxygen etc. when measuring

organic solvent).

瞬间被石化了

等离子气和辅助气一个用来维持稳定等离子体，一个用来点燃等离子体