电分析

参数基本不变的。但是我每次都重复测量，发现前前后后峰值电流会变得特别大，或许之前在这里还没有峰，可能扫着扫着就有峰了。

初始电位和终止电位是根据你要测试物质的出峰电位来定的吧，这个文献上都有的

是直接测的。三电极体系吧? 选择合适的电势窗（电压扫描范围），合适的buffer体系，直接测定就OK了。 图形不一样，是指信号强度有差别，还是峰位有差别（峰位一般不会移动很大）。不过这些都是有可能的，只要保证一定的允许波动范围——偏差，就可以了。这些跟电极的性能有关系。电极之间存在差异。所以要认真处理每一根电极，可以用同一根电极测定几次，看看效果。

我一般都是重复测定好几次（想看它稳定不稳定），但是发现最开始测的和最后测的往往相差很大（峰电流会变大许多，电位也会有偏移），不知道该以哪次的数据作为结果较合适呢？！

DPV测定我们以第一次测定数值为准！！DPV测定时，只能测定你的制备好DNA修饰电极一次，不能测定好几次，这好几次的测定结果是差别很大的，不具有可比性和稳定性。不知道你的平行样品时不是这样测定的，还是同一根电极连续测定几次（这是不对的）。
你可以这样试一下：用同一根电极分别测定几次，看实验差别。如果差别很大说明你处理电极过程或者溶液缓冲体系某一个环节存在问题。正常情况下几次单独测定结果的偏差还是比较小的。

先CV测量确定峰电位，CV大致扫描范围若有类似材料的数据可以参考下，如没有也可自己试，然后DPV电位是峰电位±0.2V或±0.3V。不宜过宽范围。其他参数一般机内默认