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标题:[未解决]【转载】【讨论】XRF测SiO2时稳定性为什么不好呢？

  [未解决]本主题悬赏 可用分 1  
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发表于 2016-3-26 08:00 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

【转载】【讨论】XRF测SiO2时稳定性为什么不好呢？

我用熔片法建了一条玻璃的工作曲线其中SiO2含量在50%-60%之间，建好后用一个片连续测量10次，发现SiO2的绝对误差在0.25%左右，这个误差范围我觉得比较大，这是仪器的问题吗？是什么原因造成的呢？其他元素又相差不是很大
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发表于 2016-3-26 08:00 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
荧光强度是多少？测量时间够吗？如果样品中没有未知元素，不仿将SiO2做为基体
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小红[使用道具]
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发表于 2016-3-26 08:01 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #1 坚持2011 的帖子

你的问题应该可以解决，把Si的测量时间延长一点，如测量30秒或40秒，应该就好了。另，Si是用PET晶体测量的，这块晶体受温度影响比较大，你仪器房间的温度最好恒定，一小时的变化温度不要超过2度。现在，Si也可以用XS-CEM晶体测定，这个晶体比PET晶体更稳定。
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 小中大
我也遇到Si测定不是很稳定，有时绝对误差能达到0。5
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发表于 2016-3-26 08:01 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
误差存在是合理的
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发表于 2016-3-26 08:02 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
不是呀，我们主要是要把SiO2能做的很精确，可熔片法的误差都是比较大的了，想做的更精确些，有没有其他方法？
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发表于 2016-3-26 08:02 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #6 坚持2011 的帖子

化学方法吧．．．．．．
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发表于 2016-3-26 08:03 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
SiO2测量时间我们一般要用80S。
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发表于 2016-3-26 08:04 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大

回复 #8 大学习 的帖子

你的准确度能做到多少？
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发表于 2016-3-26 08:04 资料 个人空间 短消息  加为好友 

 小中大
我测Si的量都较少，10ppm的偏差内。
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