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标题:[未解决]【转载】:【求助】硅片及表面硫化镉薄膜的XRD

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【转载】:【求助】硅片及表面硫化镉薄膜的XRD

我用PLD在100的硅片上长多晶薄膜,之前硅片先清洁过然后送去测了个XRD,发现69的地方有一个400的峰,前面还有两个峰包,不知道是怎么回事,是二氧化硅还是什么。而且后面那个峰包前面有点高,是不是400的二次衍射峰后来在400度左右镀了一层硫化镉,硫化镉没有完全覆盖硅片表面,32那个峰包前面变高了,而且也找不到对应的硫化镉的线,不知道为什么这个衍射峰会加强,请大家帮忙解答下,谢谢我用PLD在100的硅片上长多晶薄膜,之前硅片先清洁过然后送去测了个XRD,发现69的地方有一个400的峰,前面还有两个峰包,不知道是怎么回事,是二氧化硅还是什么。而且后面那个峰包前面有点高,是不是400的二次衍射峰......
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1、普通粉末XRD仪上观测到二次衍射的可能性不大,图1中的两个峰我认为是杂质。

2、图2中的两个新峰既然不是CdS,那么可能是S,Cd,Si的一元、其他二元或三元化合物。
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膜有多厚?
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大概500nm厚吧,第二个图,硫化镉只覆盖了1/4的样子
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如果为了增加导电性而掺杂,有没有可能测得出啊



第二个图,

新出的第一个峰,26.6左右,查PDF的话可能是硅片的(200),也可能是硫化镉立方的(111),或者硫化镉六角的(100),联系后面两个矮峰,应该是六角的(100),

第二个峰貌在第一张图上已经初露了,会不会是受了加热的影响,结晶性更好了,所以是(400)的二次衍射啊,在网上也看到别人的硅片上出现的这个峰,底下有人说是二次衍射峰
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