小中大【转载】:【求助】硅片及表面硫化镉薄膜的XRD
我用PLD在100的硅片上长多晶薄膜,之前硅片先清洁过然后送去测了个XRD,发现69的地方有一个400的峰,前面还有两个峰包,不知道是怎么回事,是二氧化硅还是什么。而且后面那个峰包前面有点高,是不是400的二次衍射峰后来在400度左右镀了一层硫化镉,硫化镉没有完全覆盖硅片表面,32那个峰包前面变高了,而且也找不到对应的硫化镉的线,不知道为什么这个衍射峰会加强,请大家帮忙解答下,谢谢我用PLD在100的硅片上长多晶薄膜,之前硅片先清洁过然后送去测了个XRD,发现69的地方有一个400的峰,前面还有两个峰包,不知道是怎么回事,是二氧化硅还是什么。而且后面那个峰包前面有点高,是不是400的二次衍射峰......