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标题:[未解决]【转载】:【讨论】压片前的研磨如何防止引入污染

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艰苦奋斗[使用道具]
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【转载】:【讨论】压片前的研磨如何防止引入污染

最近定性扫描一个纯物质中所含的杂质,选取了几个供应商的产品,想比较下这几家产品中所含杂质及其相对含量大小,



但用玛瑙研钵磨粉担心引入Si,用碳化钨球磨有可能引入W,所以比较头疼,问问大家有没有这方面的经验和好的意见?
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风往尘香[使用道具]
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看来你的材料比较硬!



什么状态?粉末还是块状
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jiushi[使用道具]
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比较脆的颗粒
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adg[使用道具]
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那不行用材料包裹下 仿制污染到样品 不知道锡箔纸行不行
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包着用研钵研磨?
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happydream[使用道具]
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是的 不知道此方法是否可行
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iop[使用道具]
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如果不硬,我感觉不用考虑引入污染的问题吧?
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jiankufanhan[使用道具]
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但要磨成粒度一致吧,我是要测相对含量大小的,比较cps高低。否则粒度效应会影响荧光强度的
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nmn[使用道具]
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分析纯物质中的杂质,以XRF的恐怕有些难度,如果要定量分析用粉末压片法就更不靠谱了。
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shuishui[使用道具]
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楼主可以实验看看,试样没那么容易被碳化钨污染,即便有的话,XRF扫描估计也看不到对应的峰,况且碳化钨引入的杂质也不仅仅是W,碳化钨也掺杂有其他金属。真要探讨碳化钨模具对试样的污染,估计得搬出MS吧。
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