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标题: 【转载】【讨论】熔融过程中熔剂挂壁技术讨论 [打印本页]

作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:10     标题: 【转载】【讨论】熔融过程中熔剂挂壁技术讨论

如何克服熔剂挂壁后黏附炸裂问题?
作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:10

自己顶先,能挂高度如何?
作者: nsdm    时间: 2016-4-11 17:11

加脱模机 LiBr
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:11

对于爆裂,适当的加些脱模剂,一般就可以避免。
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:11     标题: 回复 #2 small2011 的帖子

这个和你使用的熔剂的量有关系,如果不考虑熔剂膜的厚度,高度不是问题,可以到坩埚边缘。你的那些样品在用这种方法熔融?
作者: 大学习    时间: 2016-4-11 17:12     标题: 回复 #3 nsdm 的帖子

加脱模剂没什么多大用,如果后加还容易影响测量,好像和温度和熔融时间有关,我现在也在头痛这个问题,希望有人指导下
作者: tomm    时间: 2016-4-11 17:13

缓冷会不会有用?类似“退火”的手段可以试试看哇?
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:13     标题: 回复 #6 大学习 的帖子

挂壁完成后,四硼酸锂也是要和坩埚完成脱模过程的,在无脱模剂的情况下,熔剂膜和坩埚壁有时候并不能实现完全的着力平衡,尤其是在坩埚壁粗糙的情况下。所以在加一定量的脱模剂的前提下,肯定能减少熔剂膜的破裂。温度和时间说到底其实就是要保证四硼酸锂能够完全融化,必须是完全融化,一般需要再1000度以上。在熔融前滴加几滴碘化铵溶液即可。
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:13     标题: 回复 #7 tomm 的帖子

缓冷肯定能防止一定程度的破裂,增加挂壁程序已经增加了实验的复杂性,如果再用“退火”的手段,那就是更复杂了,时间、操作等等上的成本太高了,完全没必要,并且这种熔剂膜在不少破裂的特别厉害的前提下可以不用管它,对坩埚壁的保护程度不会降低。除非因为爆裂导致四硼酸锂迸溅到坩埚外面,影响测量结果。
作者: tomm    时间: 2016-4-11 17:14     标题: 回复 #9 龙泉 的帖子

这么快就被否决了  打击阿 Orz          比如说:下班前,放六个坩埚进行挂膜1000+度,完成后调到保温温度(较低温度) 下班。。。记得实验室上锁!第二天拿出来,冷却 称样子、预氧化,熔融。。。您看这个“退火”流程怎么样?
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:15

对于实验方法的选择,其实可以推广到一般的做事原则,有简单方便的一定不选复杂的。你说的这种方法,会不会存在这样的问题,因为不知道你的保温温度是多少,虽说四硼酸锂的挥发损失较小,但一个晚上会不会有比较大的挥发?这就不得而知了。更重要的一点是,难道四硼酸锂融化后,你不拿出来旋转坩埚吗?如果没有这个操作,熔剂全部铺在坩埚底部,没有一定的高度,如何起到保护作用?
作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:15

比如说:下班前,放六个坩埚进行挂膜1000+度,完成后调到保温温度(较低温度) 下班。。。记得实验室上锁!第二天拿出来,冷却 称样子、预氧化,熔融。。。您看这个“退火”流程怎么样?
这种方法偶也试验了一下,很难成功的。
还有一个问题:
熔剂熔化后取出挂壁,流动性好的时候挂不上(因为脱模剂的作用);在室温情况下,冷却速度太快,一般只能旋转一圈,挂壁高度就2-3mm,不能起到保护坩埚的作用呀?如何克服?
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:16

我试过不加脱模剂直接挂壁,在完全保证融化的情况下,动作不要太慢,旋转两圈以上完全没有问题,不过不加脱模剂在冷却的过程中熔剂膜会有裂痕。
流动性太好挂不上,一、你可以拿出后稍等片刻,适当的降下温;二、尽量的少加些脱模剂。这个工作是需要经验的,但可以肯定的是一定能挂一个完美漂亮的熔剂膜。
作者: ayanyang    时间: 2016-4-11 17:17

有道理,建议长期做版主,hsteel看问题有独到见解。
作者: 夜蓝星    时间: 2016-4-11 17:17

熔剂挂壁,之前做过几次实验,但都因为壁会裂就放弃了,原来还可以打脱模剂来挂壁,这个倒没想到!加了脱模剂流动性太好了,也是个问题,看来还是要多实践才能挂出好的壁!
作者: ayanyang    时间: 2016-4-11 17:18     标题: 回复 #12 small2011 的帖子

这种方法偶也试验了一下,很难成功的。
还有一个问题:
熔剂熔化后取出挂壁,流动性好的时候挂不上(因为脱模剂的作用);在室温情况下,冷却速度太快,一般只能旋转一圈,挂壁高度就2-3mm,不能起到保护坩埚的作用呀?如何克服?
挂壁高度就2-3mm,我觉得这个得多练,
而且在室温下,不会冷却的这么快!
作者: tomm    时间: 2016-4-11 17:18

太热挂不上;过冷又流不动,造成不规则成型,冷却后必定爆裂。
操作地恰到好处,需要耐心和磨练。
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:18     标题: 回复 #17 tomm 的帖子

我不理解为什么这么多人对这种技术的难于掌握,我们这儿新来的工人,一般也就教个一两次就可以很好的掌握了。
作者: 小熊猫    时间: 2016-4-11 17:19     标题: 回复 #1 small2011 的帖子

我现在也在做熔片.......
作者: ayanyang    时间: 2016-4-11 17:20

挂壁没有大家想象的那么难,基本上挂两次就练出来了
当然要挂的很完美需要多次练习,但也不是那么难做到的
作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:20

挂壁和不挂壁,测定结果有大的差别吗。
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:21     标题: 回复 #21 small2011 的帖子

不是测量上的差别,而是从保护坩埚不被腐蚀的角度出发的
作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:21     标题: 回复 #22 龙泉 的帖子

也确实遇到这中情况,挂壁后,还不好扣下来,扣完后就留痕迹了,
有时加多点脱膜剂,也还挂,真不知道如何处理。
作者: 龙泉    时间: 2016-4-11 17:22     标题: 回复 #23 small2011 的帖子

此挂壁不是你理解的挂壁,两个完全不同的概念。这个是针对还原性物质的熔融制样来说的
作者: small2011    时间: 2016-4-11 17:22

实验室曾经有人,不小心做一样品,不知道含量,后来用
铂金坩埚熔融,测出的结果,铅含量达到了20%多,后来坩埚就
发现有坑洼。而且后来也发现在铂金盖上(模具)也有滑痕,
熔出的片也不光滑。
作者: 13880416070    时间: 2019-5-6 17:02     标题: 欢迎加入X荧光技术交流群,QQ群号:704472286

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