【求助】不同溶度时峰电位会产生偏移吗

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• QQ爱 (2016-1-24 16:04:45)

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  最近看了点相关的书，我以为，目标物质不同引起DPV峰位不同原因可能在于检测设备本身的特性。我在做DPV时也遇到过这种情况，随浓度增大，电流增大，电流越增大，电位越偏差。可能原因：检测过程中参考电极与工作电极之间有个电势差，这个电势差的大小与电流大小成比例，随电流增大，电势差增大。其实氧化还原峰的实际发生电位还是原来的位置，但是由于以上干扰电势差的增加，表观上产生偏移。
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• qinqinai (2016-1-24 16:05:25)

  不会吧?出峰位置与你的检测物质有关，同一种物质应该是一样的出峰位置，但是浓度增大，峰电流增大这是必然的，因为发生氧化或者还原的反应增多了嘛

• PP熊 (2016-1-24 16:05:47)

  那测手性物质出现的差别，（R/S）不同构型的同一种物质，也出现这样现象，从哪方面解释？

• p1900 (2016-1-24 16:06:08)

  同一种物质的不同构象的呢？比如说具有手性中心的，他们的不同异构体。

• rrra6 (2016-1-24 16:06:30)

  实际出峰位置是不变的，但是可能由于设备限制，出现偏移，其实相当于参考电极的电位随电流大小而改变。不过现在已经有比较先进的电化学工作站可以自动消除这类偏移了。

• wawa11 (2016-1-24 16:06:52)

  我只做过一些离子的DPV，手性没做过，同一种物质的不同构象的氧化还原电位一定一样吗？这个我不懂。

• 今生如此 (2016-1-24 16:07:13)

  看到有的文献上是可以利用电位差别来对手性物质进行定性识别的。手性物质在一般电极上是没有差别的，在电极上修饰特定物质后对手性对应异构体的两种物质应该有些差别吧。我是这么理解的。也尝试这做一下。

• 哈密瓜 (2016-1-24 16:07:35)

  感觉你这个东西跟传感器差不多。。。好运

• 兔子 (2016-1-24 16:07:58)

  你是做手性的吗？我也是做电化学手性的

• xiaoxiaojinglin (2016-1-24 16:08:20)

  制备的修饰电极，检测时不同浓度下Ep稍稍偏移是可能有的，但应该非常小。
  峰电流与扫速的二分之一次方成正比，与浓度成正比，浓度大自然电流也大
  峰电流的偏移直接说明了楼主测试的该电极反应不是可逆反应，扫速增加Epc负移 Epa正移，看来楼主测的是还原性物质啊 要是可逆反应电峰位是不变的
  楼主应该从检测物电化学氧化机理考虑：是受吸附 还是扩散控制 是几个电子参加的反应
  然后根据实验数据证明其机理
  电位与浓度没什么直接关系吧

• xgy412 (2016-1-24 16:08:42)

  是不可逆的，扫速没有改变。扫dpv，从负到正，氧化峰。设计修饰电极对手性  R/S物质存在不同的差异。看吸附、还是扩散。用什么实验来证明？
  能说一下吗？
  cv-扫速实验？

• n111 (2016-1-24 16:09:03)

  我做的是一氧化氮的检测，用LSV对设置不同扫速时作图，检测物浓度保持一致。测得峰电流与扫速的一次方成良好的线性，则是吸附控制；若与扫速的二分之一成良好线性，则是扩散控制。

• yayayu (2016-1-24 16:09:24)

  我做的是一氧化氮的检测，用LSV对设置不同扫速时作图，检测物浓度保持一致。测得峰电流与扫速的一次方成良好的线性，则是吸附控制；若与扫速的二分之一成良好线性，则是扩散控制。

• qinqinai (2016-1-24 16:09:50)

  每次扫LSV,是连续改变参数吗？还是将电极处理重新活化一下？

• yuanyuan (2016-1-24 16:10:10)

  每次扫LSV,是连续改变参数吗？还是将电极处理重新活化一下？

• zouyou (2016-1-24 16:10:36)

  不可逆的，R-型手性氧化过程

• 哈密瓜 (2016-1-24 16:11:00)

  如果是在电极上富集检测的，如某些金属离子，就要每次更换底液。不然就直接改参数，连续测量多次就行了。楼主的那个我不是很清楚，楼主自己先试试吧