【求助】介孔硅的XRD表征出现这样的图谱为什么？

字体: 小中大 | 打印发表于: 2016-2-19 15:49 作者: 8黑眼圈8 来源: 分析测试百科网

照着文献中的方法，用阴离子表面活性剂为模板合成的介孔硅，在0.5度-10度进行XRD表征，结果出现的图谱和文献中说的在1度-2度出现一个较宽的峰不同，而是没有出现峰，直接在0,5度开始呈逐渐减低的趋势，这是为什么？难道做的介孔硅没成功，只是一些颗粒么？附图如下，求解惑。

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okhaha (2016-2-19 15:49:35)

如果样品没有问题的话，那就是仪器的性能不够！
woshi (2016-2-19 15:50:33)

如果与文献相比，XRD表征结果比较差，那肯定是合成过程中出现问题了！
zhenxin (2016-2-19 15:50:48)

这样的谱图，可能是材料本身的原因，但是也有可能是楼主压片的原因，你松紧多压几次样品试一试。
8黑眼圈8 (2016-2-19 15:51:25)

把步长调到最小试一下，如果还是这样那就是样品的问题
ujne (2016-2-19 15:51:43)

先确定结果有没有问题吧，多测几次，样做好一些，表面压平，如果还是这样，那可能是材料的问题了。能找到相似的参考文献的话，参考一下别人怎么做的。
cocacola (2016-2-19 15:52:17)

是不是做出无定形的东西了，一点峰都没出啊
wiwi (2016-2-19 15:52:46)

扫描速度是不是太快了一般零点几度每分钟小角狭缝相比广角要换成更小的我们这是广角用1.5mm的小角换成0.6mm 也有可能是样品的问题介孔有序度比较差

【求助】介孔硅的XRD表征出现这样的图谱为什么 ？