【求助】用热电的X2测过磷酸的金属离子含量

用热电的X2测过磷酸的金属离子含量,锥是Pt锥,样品稀释100分之一,用了标准加入法,并用了膜去溶的外设,但是背景Cr,Mn,Fe,Co不稳定,特别是Mn,想问下有没有更好的办法解决这个问题。有群友提了几条建议:1、先测试下实验用水,空白要稳定;2、稀释进样,用标准加入法;3、高沸点的酸不适合膜去溶;4、用碰撞模式或者不太冷的冷焰。不过提问的网友说如果不用膜去溶,多原子离子干扰会很严重,Cu、Zn测不了。不过话说,啥是膜去溶呢?这个东西没有实际见过,我的理解就是把溶剂去掉了,然后再进等离子体,这样基体就简单了,多原子离子干扰就少......
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  • QQ爱 (2016-4-09 12:01:19)

    所以,这里面有两个问题:1 求助的微信群友的问题,各位懂行的给指个道。
    2 膜去溶,还请大家贴几张自己实验室这方面的高清大图吧,

    谢谢了!
  • yayayu (2016-4-09 12:01:39)

    天有个群友发了个求助:用热电的X2测过磷酸的金属离子含量,锥是Pt锥,样品稀释100分之一,用了标准加入法,并用了膜去溶的外设,但是背景Cr,Mn,Fe,Co不稳定,特别是Mn,想问下有没有更好的办法解决这个问题
    ——  所谓标准加入法的背景,就是待测样品本身(85%浓磷酸稀释100倍后)。膜去溶排废气管路是否通畅,是否有一定阻力,能很大程度影响信号灵敏度和稳定性。有一定阻力时,吹扫气流量比较低(<2L/min)信号就很强很稳定;彻底通畅,吹扫气需要>5 L/min也不奇怪。
    有群友提了几条建议:1、先测试下实验用水,空白要稳定;2、稀释进样,用标准加入法;3、高沸点的酸不适合膜去溶;4、用碰撞模式或者不太冷的冷焰。
    ——  (1) 纯水杂质的cps计数很低,不可能稳定;(2) 高纯85%磷酸测试杂质,国际标准国内标准都是稀释100倍,过渡稀释就测不出杂质了;(3)赞同;(4) 磷酸是极其复杂的基体,即便稀释100倍也是复杂基体(可对比一下:高纯98%硫酸只需稀释10倍就能上机测试),Cool Plasma 或 Warm Plasma 不可能充分分解0.85%磷酸。测Cu用 65Cu,避开 31P-31P-1H对63Cu的干扰。
  • yazi (2016-4-09 12:02:01)

    Cetac Aridus II 膜去溶由国内 莱伯泰科 LabTech 代理,约20万人民币。普通的四极杆ICP-MS闻所未闻。
    顶端是自动进样器,底部是膜去溶——没有自动进样器,膜去溶也能工作。
  • wawa11 (2016-4-09 12:02:23)

    阴化学试剂厂似乎有一台膜去溶搭X2使用,附件。
    但是Xi接口能调出Cool Plasma所需要的指标来?
  • 大花猫bb (2016-4-09 12:02:48)

    目前使用CCT方式可以去除Cr,Mn,Fe,Co。怀疑是哪些受到了污染了,锥也已经更换成新的了,可是问题仍然在。目前走水这几种元素也很高。